pH响应性SiO2纳米粒,100-150nm的中空介孔二氧化硅的制备过程

pH响应性SiO2纳米粒,100-150nm的中空介孔二氧化硅的制备过程

选择带负电荷且溶解度和分子结构对pH值非常敏感的聚丙烯酸作为封堵分子,采用静电吸附的修饰方法,制备了pH响应的MCM-41型介孔二氧化硅纳米颗粒.

合成MCM-41型MSN：

将1.00 g CTAB溶解于480 mL去离子水中，加入3.5 mL 2 moL/L的NaOH溶液，混匀后将混合溶液升温至80 ℃.将5.00 mL TEOS滴加到混合溶液中，搅拌2 h得白色沉淀．高速离心分离固体产物，依次用去离子水和乙醇洗涤3次，于60 ℃下真空干燥12 h后，在550℃的马弗炉中煅烧5 h以去除介孔中的表面活性剂，即得到MCM-41型MSN。

采用APTS硅烷修饰法制备氨基化 MSN：

取200 mg MSN分散于20 mL去离子水中，加入 200 uL醋酸和100 uL APTS，室温下搅拌24 h后过滤处理，依次用去离子水和乙醇洗涤3次, 60℃下真空干燥12 h，即得到氨基化介孔二氧化硅纳米颗粒(Ap-MSN).

客体分子的包载及pH响应MSN载体的制备︰

取100 mg的Ap-MSN分散于10 mL 2 mmol/L的联吡啶钉溶液中，室温下于摇床中孵育24 h以使Ap-MSN的染料装载量达到z大，然后将与染料孵育的Ap-MSN离心，用去离子水洗涤3次, 60℃下真空干燥12 h，即得包裹染料的Ap-MSN.取10 mg包裹染料的Ap-MSN加入l mL质量分数为0.2%的PAA中，室温下于摇床中孵育30 min，离心，用超纯水洗涤3次, 60℃下真空干燥12 h，通过PAA与Ap-MSN 的静电相互作用，获得PAA修饰的介孔二氧化硅纳米颗粒PAA-Ap-MSN )。

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仅用于科研，RL2023.5