生长方法之铝酸镁基片,CVD法二氧化硅基底单层石墨烯薄膜
预处理: 在一些情况下,可能需要进行一些预处理步骤,如在基底表面沉积金属催化剂,通常使用的是镍(Ni)或铜(Cu)。通常,这包括在硅衬底上生长一层细致的二氧化硅薄膜,以提供石墨烯的生长平台。这是碳的来源,用于在基底表面生长石墨烯。取出样品: 取出生长好的样品,可能需要进行后续的处理步骤,如去除残留的催化剂或其它杂质。冷却: 当石墨烯生长完成后,逐渐冷却反应室,以防止新的碳原子添加到石墨烯结构中。清洁基底: 使用合适的清洁步骤,确保基底表面没有杂质,以提高石墨烯生长的质量。AF594标记膜粘连蛋白-5。
原创
2023-11-20 15:09:59 ·
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