本文介绍了时序分析中的On-Chip Variations（OCV），解释了为何需要OCV来应对芯片制造中不同位置MOS晶体管性能差异的问题。OCV使得时序分析更为严谨，通过设置和保持检查的示例详细阐述了OCV的工作原理。此外，文中还提及了AOCV和SOCV等更先进的分析方法，以确保设计与制造结果的一致性。
今天我们要介绍的时序分析概念是on chip variations，简称OCV。OCV会对时序分析提出更严格的要求。那为什么需要OCV呢，因为制造工艺的限制，同一芯片上不同位置的MOS晶体管的性能会有一些差异。库中的PVT是一个"点"，比如1.2V，250℃，工艺1.0。 但实际芯片的PVT永远不会落在一个点上，而是一个范围；比如说有时序关系的几个cell，可能这几个cell的PVT是1.18V，20℃，工艺0.98。而那个cell的PVT是1.21V，35℃，工艺1.01。这些cell的PVT都不在那个点上，怎么去分析呢？这时候就需要OCV了。
还是参照single mode和bc-wc那张图，OCV的检查方式更加严格，如下所示：
For setup :late path from max lib late path from max libearly path from min libFor
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