图像处理ASIC设计方法 笔记26 非均匀性校正SOC如何设计

在红外成像技术领域，非均匀性校正是一个至关重要的环节，它直接影响到成像系统的性能和目标检测识别的准确性。非均匀性是指红外焦平面阵列（IRFPA）中各个像元对同一辐射强度的响应不一致的现象，这种不一致性可能是由于制造过程中的缺陷、材料的不均匀性或者像元间的热电特性差异造成的。为了提升红外成像系统的性能，必须对这种非均匀性进行有效的校正。本文将详细介绍红外焦平面非均匀性校正的背景、挑战、设计目标以及实现方法。

1. 非均匀性校正的背景与挑战

红外焦平面阵列（IRFPA）的非均匀性问题，有多种多种非均匀性校正算法可以解决，主要分为两大类：基于定标的校正算法和基于场景的自适应校正算法。

1.1 基于定标的校正算法

基于定标的校正算法是一种传统的校正方法，它通过周期性地对红外焦平面进行定标，来测定各个像元的响应参数，并以此参数对实时图像进行校正。这种方法虽然在理论上能够提供较为准确的校正效果，但在实际应用中存在一些局限性：

• 响应漂移和1/f噪声问题：定标算法无法有效解决IRFPA的响应漂移和1/f噪声问题，这些噪声会随着时间的增长而累积，影响成像质量。

• 周期性定标的需求：需要定期进行定标，这不仅增加了设备的复杂性，也限制了其在机载与弹载等快速反应场合的应用。

• 设备装置的复杂性：为了进行周期性定标，需要额外的定标设备，这增加了系统的体积和重量。

1.2 基于场景的自适应校正算法