闲话一篇说说什么是光刻机

曾经就职于一家中国人自己的光刻机研发制造公司，不是研发不是技术，而是QA岗位，由于对技术比较喜欢，反而从更加系统的层面，了解了一下，什么是光刻机。

什么是光刻机

俗称印钞机，真的是印钞机。想想看，沙子，即便是石英砂吧，进去了，出来个芯片，进去个玻璃，出来个液晶屏幕，这不就是典型的点石成金吗？其他地方的人管钱叫钱，而上海方言的择词，钱叫钞票，钱包，叫皮夹子。光刻机就是合法的没日没夜的印钞票啊。
想当年，那些技术，天天用中国的航天去鼓励，要求自己，其实，看着那些研发，能看出来他们自己对自己都没什么信心。
那个时候，了解到的，中国的半导体行业，靠着国家的鼓励，有那么几家公司看着挺红火。
第一个中芯国际，好像公司内部的研发，对这个公司嗤之以鼻，其实是台湾背景的公司，搞着搞着，怎么搞成国企性质了。45纳米，技术并不前沿，可以说甚至是落后。
第二个，京东方，那个时候的表现，也很差，天马，也不咋地。
还有，就是芯片设计公司，华为海思。想想看，那个时候的华为，做手机，但是实际只跟运营商做合作。C端的华为，并不咋地。“中国人自己做芯片，能做好吗？”
可现如今，华为麒麟可以跟高通叫板，华为高端手机的屏幕，敢用京东方。中芯国际SMIC，14纳米工艺，可能产能存在不足，工艺已经成熟。
短短几年，翻天覆地。再看今天，各种芯片公司。
华为的海思真的是鼓励了全体中国人！！！海思撑起了整个中国半导体行业的大旗啊！致敬华为！
推荐一本书，不记得名字了，是日本前尼康总裁的自传。尼康，前身日本光学工业株式会社。这就是资本主义社会啊，尼康不过是这个大集团公司下的一个ToC的相机品牌，最终成了整个集团的名字。犹如，今天的华为，有一天改名，比如荣耀！悲哀！！！
现在人都知道了，光刻机大致两类，逻辑电路芯片Stepper，以及Scanner。
上个世纪八九十年代，这两类设备，全球最牛逼的公司，就是尼康。这个总裁，也就是公认的光刻机之父。
书里面说，1990年代初，一天大总裁办公室来了一个人，说研发出了一台特别牛逼的设备，世界领先，好东西！好东西是好东西，没人买。其实后来的ASML开始的时候，也面临着同样的困境，说是Philips支持，其实呢，不给钱，不给人，完全是人家自己抗住了。到了95年左右，想想当时的世界，美国克林顿的时代，小日本日子很惨，牛逼的光学工业会社完全靠着下面的尼康撑着艰难度日，干脆改名叫尼康了，逐步的放弃了前沿光刻机的研发。若不是如此，哪有ASML什么事儿呢？
扯太远了。
说回光刻机。我们就从华为的IPD的方式来阐述，个人之见，想想看，作为一个QA，天天追着研发的屁股，问，这是怎么回事，那是怎么回事，总结出来的，所以，未必准确，不对，应该说，大部分是在胡说八道。所以，各位看官，接下来的内容，爱看不看，哈哈~~

系统

作为光刻机是一个设备，进去的是晶圆，出来的是曝光后的晶圆。是芯片生产过程中，最关键的一环。
整体而言，跟交卷相机差不多。晶圆就是胶卷。大致的结构如下：

指标就三个，线宽，产率，不良率。
哇塞，多简单啊。太简单了，咋就搞不出来呢？费解吧？费解！

分解

光学分系统

主要有灯室及相关光学组件以及最关键的物镜。
灯室里面高压汞灯，汞被高压激发，产生极紫外线。曾经一个学物理的中科大毕业的研究生(他是我做软件开发的领导)，说，按照道理，光是一种电磁波，波的能量，一般是指振幅，振幅越高，携带的能量越高。但是光，并不是这么回事，实际光携带的能量，跟频率有关，尤其在微观领域，所谓的那一套光速不变的经典物理理论，根本无法解释这一现象，而量子理论，在这种微观领域解释得非常好，但是量子理论，完全颠覆了经典物理里面的经典物理学家笃信那一套理论基石，颠覆了因果律，粒子纠缠，完全同步，没有先后，没有因果。
灯室产生极紫外光，就是频率极高。然后经过一系列石英组件，形成平行光，到快门。
物镜：曾经的光学大神告诉我，几乎所有的光学系统镜头，都是基于4F系统，经过傅里叶变换，在截面上将角度转换为长度。2F位置的地方设置光兰即可，利用长度的调节，去调整入射或者说出射的角度。

运动控制分系统

运动控制分系统，主要含有两个独立的子系统，掩模台以及工件台。
掩模台上放Mask，工件台上放胶卷，也就是硅片。
光从掩模上透过去，经过物镜，在硅片上成像。就跟太阳光透过你家窗户，在你家地板上照出了一个窗影一个道理。
比如：8寸晶圆，工艺上一般是55个场，一个场含有4个Cell。
解释一下，场，就是一次曝光，就相当于一张胶卷。就相当于一卷胶卷里面有55张。硅片上单个的胶卷是平铺开的，而胶卷是卷在一起的。然后一个胶卷上被分成4个部分，每个部分独立出来，其实就是一刻芯片，这就是所谓的Cell。
其实只想说明一点，就是工件台系统，肯定是运动的，得不断的快速短行程的运动，还得保证停下来的定位精度，不容易啊。
然后呢，还得上下硅片，一片曝光完了，到下一片，总得把曝光完的拿下来，把新的硅片放上去，这个就需要这个工件台长行程的高速运动，精度要求，可能就没那么高了。
上下片的过程，其实是一个比较费时的过程，这个过程中，整个光刻机的其他组件部件都是闲着的。这太影响产率了，这个是光刻机验收三大指标之一。所以ASML出了一台twinscan，双工件台，你上下片，我曝光，我上下片，你曝光。多牛逼！！！人家单工件台都搞不定，人家已经双工件台了，就别说EUV了。这下，就这一点点，就知道中国落后得有多少了吧。

介绍一下运动分系统的运动控制

由于精度要求，这个台子是要保证能够让硅片在6个空间自由度上运动的，x,y,z,rx,ry,rz。还要保证精度，谈何容易。
就介绍一点吧：

整机工作站将指令发送给通讯板卡PowerPC板卡，PPC将指令转换发给Motion Controler 板卡，MC 去规划路线，分步骤的把信号发给PAC，这是一个D/A转换板卡，过PA，做功放，然后M 电机起伺服，F 反馈系统，监控结果，然后负反馈给MC，MC计算之后，调整规划，继续循环。
大致说明一下这个路径规划。也实话实说，我当时问技术大咖的时候，我说我不懂，所以请当我是小学毕业，烦请说得尽量通俗易懂，故而以下的解释可能就“通俗易懂”到“面目全非”的地步，见谅。
PPC板卡负责与工作站的通讯。工作站可能下了一个指令，最简单的前进 100 mm，要求5秒内完成。那么，到了 MC，首先要进行规划，怎么规划呢？每秒20 mm 耗费 5秒？其实并不是，实际是：
第一秒：15mm
第二秒：20mm
第三秒：30mm
第四秒：20mm
第五秒：15mm
因为，行程不能突变，行程是速度在时间上的累积。速度呢，也不可以突变，速度是加速度在时间上的累积。F=ma，力是可以突变的。这样一来，从行程到加速度，二阶积分了。也难怪控制系统理论里面动不动就是微积分。。。。
到了加速度就到了力，力是哪儿来的呢？电机给的，电机通过起伺服，驱动台子运动。伺服啥意思，说句心里话，至今我也没搞明白。
还有就是还有反馈信号需要处理呢。
第一秒规划了15mm，实际跑了16mm，多了1mm，那么可能下一秒就要规划回去，就是19mm。哎，控制系统是在太难了。
这就是这一整套系统的大致的工作流程。
这样的控制系统还落后人家好几代，哎，惨！！！
这个反馈的测量系统，也是牛逼的。
激光干涉仪系统：利用波的多普勒效应。其实就是那个经典的例子，或者从远处开过来经过面前后驶远，过程中的鸣笛声，就会来时听着越来越纤细，驶远过程中越来越浑厚，低沉。
高速度运动的物体，采用这个机制，将光束打到平面棱镜上，高速运动过程中的棱镜反射会的光，其波长就会根据其速度响应的变化，感光器件就可以接收到这种变化，测定棱镜运动的速度。（我也不知道我说清楚了没有）
反正跟光，光电相关的东西，总之要求精度就非常高。高到，中国人量产不出来。前不久，遇到一家公司，依托安徽大学实验室的科技成果，产品之中就有这种激光干涉仪，算是国产化了吧，也不知道到底精度怎么样，可靠性怎样。

光电分系统

就是各种光电传感器。。。

微环境系统

就是温控系统。所谓的无尘环境，光科技内部的无尘环境，主要是整个光刻机内部里面不断吹入洁净空气，保证腔内正压，腔外负压，说白了就是里面往外面冒气儿，里面一直干净这，外面的空气进不去灰尘也就进不去。
还有就是均匀的气域，也就是吹气散热。。。。
曾经在这个部门担任QA很长时间，想当初还记得整个温控系统是什么样子的，现在这样的图画不出来了，不记得了。哎。

还有很多

罢了，懒得写了，中国人的光刻机，那是整体的工业水平，尤其是高精密高精尖制造领域，工业基础还是~~~

任重道远