兆声波对硅片湿法清洗槽中水和气泡运动的影响

本文研究兆声波对300mm硅片湿法清洗槽中水和气泡运动的影响。兆声波加速了水运动,增强了气泡传输速率,有助于改善湿式清洗条件。

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摘要

研究了兆声波对300 mm直径硅片湿法清洗槽中水和气泡运动的影响。使用水溶性蓝色墨水的示踪剂观察整个浴中的水运动。兆声波加速了整个浴槽中的水运动,尽管没有兆声波时的水运动趋向于局部化。兆声波产生的小气泡的运动也被追踪到整个晶片表面。兆声波和水流增加了气泡的传输速率。

介绍

使用超纯水、各种化学试剂和非常常见的兆声波在湿法工艺之后清洗硅晶片表面.此外,兆声波产生的微泡已经用于各种清洗技术。因此,许多研究人员)已经基于清洁的硅晶片表面的粒子水平评估研究了其有效使用的方法和条件。为了进一步改善湿式清洗槽中的湿式清洗条件,水和气泡在兆声波作用下的运动应该得到充分的澄清。尽管在著名的先前论文中已经通过数值计算研究了兆声波下的水流,但是使用可视化技术的实验研究应该进一步进行。

本文研究了在不同功率的超声波作用下,水和气泡在整个无载体湿法清洗槽中的运动。根据所得结果,讨论了兆声波的作用和影响。

实验

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