《炬丰科技-半导体工艺》激光增强湿法蚀刻制造的大规模高质量玻璃微透镜阵列

书籍：《炬丰科技-半导体工艺》
文章：激光增强湿法蚀刻制造的大规模高质量玻璃微透镜阵列
编号：JFKJ-21-992
作者：华林科纳

引言

微透镜阵列由于其在微光学系统、光纤耦合、人工复眼结构、光漫射器和光学传感技术中的广泛应用而成为至关重要的光学器件。大规模多层膜在高分辨率成像和提高发光二极管和有机发光二极管的光提取效率方面发挥着不可替代的作用。如今用于高清成像领域的图像传感器，如电荷耦合器件和互补金属氧化物半导体，很难达到100%的像素孔径比。方形多层反射镜通过将光线聚焦在感光区域有助于提高比率。这将提高电荷耦合器件和互补金属氧化物半导体器件的信噪比，并提高其成像能力。此外，多级光阑有助于降低图像传感器的灵敏度阈值，达到普通CCD对星光CCD的近似成像效果。在固态照明市场，低的光出射耦合效率限制了有机电致发光器件和发光二极管的广泛应用。为了提高输出效率，微透镜阵列与有机电致发光器件和发光二极管相结合。微透镜阵列覆盖的有机电致发光器件和发光二极管的输出功率可提高2倍。

实验

我们使用了用飞秒激光湿蚀刻法制作多层膜。如图1所示，制造过程可分为四个步骤，包括fs-激光曝光、湿法蚀刻、复制品成型和清洗。首先，用物镜(NA = 0.5)将激光功率§为5mW的fs-激光脉冲(800 nm，50 fs，1 KHz)聚焦到石英玻璃表面，产生方形排列的激光改性光斑阵列[图1(a)]。激光曝光坑是逐点生成的。对于每个点，曝光时间可以由快速机械快门控制，激光功率可以通过可变密度滤光器调节。随后，在室温下用3%氢氟酸溶液处理后制备样品。湿蚀刻工艺后，方形排列的凹坑转变为方形凹陷结构[图1(b)]。在蚀刻过程中，使用超声波浴来保证微透镜的一致性和蚀刻过程的高速。超声波浴有助于去除蚀刻过程中产生的产物和气泡。然后，可以通过将液体PDMS倾倒在方形凹陷结构上并在8