《炬丰科技-半导体工艺》过热蒸汽晶片清洗设备HF感应加热装置的优化设计

书籍：《炬丰科技-半导体工艺》
文章：过热蒸汽晶片清洗设备HF感应加热装置的优化设计
编号：JFKJ-21-1301
作者：华林科纳

本研究采用感应加热(IH)法和短时间过热蒸汽(SHS)生成工艺，设计和制造了晶片清洗设备,为了防止在流体流动区域中存在颗粒物而引起的问题，在晶圆清洗设备中使用了纯2级钛(Ti)R50400，通过感应加热物体。设计和制造了特定形状的钛载荷，以及谐振网络，通过增加流体在加热物体中的停留时间，有效地产生高温蒸汽。分析了钛制的不同形状加热物体的IH性能，并对结果进行了比较。此外，还通过数学计算和分析对生成SHS所需的热容进行了计算和分析,利用设计的2.2kW晶圆清洗设备进行实验，验证了SHS的加热性能,结果表明，纯钛基SHS生成系统的性能令人满意，该系统可在10秒内生成了温度高于200◦C的SHS。
随着液晶显示器(LCDs)制造技术的进步，母玻璃(MG)的尺寸不断增加，在制造过程中使用的清洗过程变得越来越重要,特别是，在用于制造薄膜晶体管(TFTs)的MG衬底上沉积晶体管层的过程需要对MG衬底的清洗过程，如图1所示,诸如半导体晶片和液晶显示器的MG等工件表面存在诸如残留有机材料和微粒的污染物。

最近，使用高温高压下的过热蒸汽(SHS)开发了环保且具有优异洗涤能力的清洁设备,自蔓延高温合成清洗设备使用加热器加热水箱中的水，在200℃以上的温度下产生自蔓延高温合成；然后，将自蔓延高温合成喷涂到镁和晶片上以清洁它们,用于产生自蔓延高温合成的传统设备使用电热丝直接加热水。在这种方法中，用于产生自蔓