半导体的非平衡载流子----陷阱效应介绍

目录

间接复合---​编辑与​编辑的关系

俘获截面

陷阱效应

电子陷阱 


间接复合---\small \tau\small E_t的关系

简单假设\small r_n=r_p=r,则

\small U=\frac{N_tr(np-n_i^2)}{(n+p)+2n_ich(\frac{E_t-E_i}{kT})}

\small E_t=E_i时,\small U极大

\small |E_t-E_i|>>k时,\small U->0\small U=U(E_t)

深能级------有效的复合中心


俘获截面

单位时间内某个复合中心俘获电子(或空穴)的数目

\small n\cdot r_n=\sigma_{-}V_Tn

\small r_n=\sigma_{-}V_T

\small r_p=\sigma_{+}V_T

表面复合也是一种间接复合,会引入一些能级,我们怎么来定义表面复合,表面复合率

\small U_s=s_p \cdot (\Delta p)_{s}

表面复合速度\small s_p=\sigma_{+}V_TN_{st}


陷阱效应

间接复合通过复合中心来实现的,在\small E_t上面是有电子的

杂质能级可以积累非平衡载流子的作用称为陷阱效应

电子从导带落到杂质能级上,\small \Delta p=\Delta n+\Delta n_t

\small \Delta n_t>0电子陷阱作用

\small \Delta n_t<0空穴陷阱作用

有效的陷阱:在\small N_t比较低的情况下,\small \Delta n_t>>\Delta n(\Delta p)

什么样的情况下,可以成为陷阱

在某一个稳态下面,杂质能级上的电子数目

\small n_t=N_t\frac{r_nn+r_pp_1}{r_n(n+n_1)+r_p(p+p_1)}

既然和n,还有p两个掺杂量相关,我就可以根据全微分展开

\small \Delta n_t=(\frac{\partial n_t }{\partial n}_0) \Delta n+(\frac{\partial n_t }{\partial p}_0) \Delta p,在稳态附近展开

求出前面两个的系数

我们令\small \frac{N_t}{[r_n(n_0+n_1)+r_p(p_0+p_1)]^2}=A

我们可以把微分表达式写成简单的式子,代进去

得到\small \Delta n_t=Ar_n(r_nn_1+r_pp_0)\Delta n-Ar_p(r_nn_0+r_pp_1)\Delta p

\small \Delta n_t=\Delta p-\Delta n

\small ->\frac{\Delta n_t}{\Delta n}=\frac{1+Ar_n(r_nn_1+r_pp_0)}{1+Ar_p(r_nn_0+r_pp_1)}-1

电子陷阱 

如果\small \frac{\Delta n_t}{\Delta n}>0,有电子积累,称为电子陷阱

要成为有效电子能级\small \frac{\Delta n_t}{\Delta n}>>0

要具备的一个最简单的条件\small r_n>>r_p,你可以看到分母上的\small r_p^2可以被忽略

,分子上只剩下\small r_n^2

这些条件满足之后,我们就可以把全微分式进一步简化,我们可以直接得到\small \Delta n_t=N_t\frac{n_1}{(n_0+n_1)^2}\Delta n

\small 1^{\circ} \\small n_1=n_0的时候,这个式子有极大值,复合中心等于费米能级,\small (\Delta n_t)_{max}=\frac{N_t}{4N_0}\Delta n

对于N型半导体N0还是很大,所以要想称为有效陷阱,当然是p型半导体

\small r_n>>r_p,陷阱俘获电子后,很难俘获空穴,因而被俘获的电子往往在复合前受到热激发又被重新释放回导带。陷阱的作用:增加少子寿命

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