N沟道增强型MOSFET

  • 主要公式

    1. 可变电阻区内$r_{dso}=\frac{dV_{DS}}{di_d}=\frac{1}{2K_n(v_{GS}-V_{TN})}$$K_n$为电导常数——单位$mA/V^2$$V_{TN}$为开启电压)

    2. $K_n=\frac{K^{'}_n}{2}*\frac{W}{L}=\frac{\mu_n C_ox}{2}(\frac{W}{L})$

      $K^{'}n$为本征导电因子,$\mu_n$为反型层的电子迁移率,$C{ox}$为栅极氧化层单位面积电容,W为沟道宽度,L为沟道长度。

    3. 饱和区内$i_D=K_n(v_{GS}-V_{TN})^2$
      若考虑沟道调制效应:$i_D=K_n(v_{GS}-V_{TN})^2(1+\lambda v_{DS})$ , (

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