什么是FA,FA的作用,过程,失效现象分析及FA分析结果要点总结

FA(Failure Analysis)是针对电子元器件失效的分析方法,用于确定失效原因和改进设计。它涉及元器件设计改良、硬件设计改良、责任判定和品牌价值提升。FA过程包括失效现象、失效机理和原因的分析。失效现象分析包括外形、电性能和材料成分特征。FA结果用于判定失效原因和责任,如元器件自身缺陷、使用不当等,以及材料、元器件、PCBA组件、整机、系统和使用缺陷的责任划分。
摘要由CSDN通过智能技术生成

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1,什么是FA

    FA(Failure Analysis)是指元器件的失效分析,是指在元器件失效后通过,物理,化学等分析手段,找出元器件的损坏的地方,及失效的原因的实验分析方法。


2,FA的作用


2.1,元器件设计改良

    首先FA分析可以对元器件的设计,工艺,制造等流程提供改进的方向,是产品可靠性设计的重要依据。
在这里插入图片描述


随着功率 MOSFET的工作电压和电流大幅度增加,芯片尺寸的不断减小,导致功率 MOSFET器件芯片的内部电场进一步增大这些因素对功率 MOSFET的可靠性都提出了新的挑战,不断提高器件的可靠性成为了人们关注的热点。通过失效分析寻找失效机理,再从生产材料与封装工艺上进行改进,是提高器件可靠性行之有效的方法,本文的研究工作主要围绕功率器件的封装以及静电放电失效分析展开,论文可分为三个部分 第一部分系统研究了器件封装过程中可能产生的各种封装缺陷根据功率器件的封装流程系统总结分类了在功率器件生产过程中的常见的失效模式,失效分析流程和方法,失效分析设备。   结果表明,功率器件封装失效机理可以根据封装工艺流程分成3个部分,芯片焊接(die attach)时的焊料缺陷,打线(wire bond时的引线缺陷,最后塑封成型(molding)时的分层缺陷。对于比较复杂的封装缺陷,如因为打线外力对芯片造成的打线损伤 bonding damage),环境或操作不当造成芯片沾污等,还可以利用聚焦离子束(focused ion beam,FIB),能量弥散X射线探测器(energy dispersive X-ray detector,ED》等分析手段第二部分重点关注了器件的焊接层中空洞缺陷的种类及微分析方法,以及产生空洞的机理和影响空洞形成的因素。对于焊接层空洞的研究结果,发现在现有试验设计及参数窗口内,焊料的种类,回流曲线,焊盘和器件的镀层种类及其氧化程度和焊料形状焊接压力对焊接层空洞率都有不同程度的影响。在焊料空洞的多种微分析手段当中,Xray结合超声扫描显微镜的探测方法是最全面可靠的
因子分析是一种常用的多元统计分析方法,主要用于研究多个变量之间的关系。在 R 语言中,我们可以使用 `psych` 包中的 `fa()` 函数进行因子分析。该函数的输出结果包括多个部分,如下: 1. 该数据集的因子可解释方差总和(SS loadings):表示所有因子总共可以解释的方差占原始变量总方差的比例,通常希望该比例大于 50%。 2. 每个因子的可解释方差(Factor1, Factor2, ...):表示每个因子可以解释的方差占原始变量总方差的比例,通常希望每个因子的比例都大于 10%。 3. 因子载荷矩阵(Factor loadings):表示每个原始变量与每个因子之间的相关系数,通常认为载荷绝对值大于等于 0.3 的变量与该因子有显著关系。 4. 共同度(Communality):表示每个原始变量与所有因子之间的相关系数平方和,通常希望共同度大于 0.5。 5. 特殊因子方差(Uniqueness):表示每个原始变量独特的方差,即与所有因子无关的方差,通常希望特殊因子方差小于 0.5。 6. 因子间相关系数(Factor correlations):表示每个因子之间的相关系数,通常认为相关系数绝对值大于等于 0.3 的因子之间存在显著关系。 根据以上结果,我们可以综合考虑各个指标,对因子分析结果进行解读和分析。例如,如果某个因子的可解释方差比例较低,可以考虑删除该因子或重新选择变量;如果某个变量的共同度较低,可以考虑该变量不适合进行因子分析等。
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