模拟管级电路设计经验

文章详细讨论了在模拟电路中,如何通过控制晶体管的沟道长度、宽长比和过驱动电压,使其在电流镜和运放输入对管应用中分别处于强反型区和弱反型区,以减小失配影响并确保可靠工作在饱和区。
摘要由CSDN通过智能技术生成

在经典的模拟电路中,晶体管一般要求工作在饱和区,为了减小电路失配(mismatch)和沟道长度调制效应的影响,晶体管的沟道长度L一股比较大,即为长沟道器件。作为电流镜的晶体管,要尽可能地减八沟道长度调制效应的影响,晶体管L比较大(同时减小失配),但宽长比W儿一般不大,过驱动电压Vgs-Vth适中,晶体管工作在强反型区,Vdsat取150mV-200mV左右。做为运放的输入对管,对增益gm和电路失配的要求比较高,晶体管尺寸W和L比较大(减小失配),同时宽长比W八比较大(增力gm),因此过驱动电压Vgs-Vth一般很小,晶体管工作在弱反型区,Vdsat取150mV左右,很难做到更大,一般来说vdsat<50mV管子基本就工作在线性区。为了保证晶体管可靠地工作在饱和区,Vds与Vdsat的差值要足够大,一方面是担心工艺偏差导致晶体管进入线性区,另一方面晶体管工作在饱和区附近,rds比较小,晶体管的本征增益比较小。Typical 情况下,Vds-Vdsat至少要为100mV,最好为200mV左右。

 

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