NMOS结构示意图
如下图所示:
如上图所示,NMOS是用一块掺杂浓度较低的P型硅片作为衬底,利用扩散工艺在衬底上扩散出两个高掺杂浓度的N型区(N+),并在此N型区上引出两个欧姆接触电极,分别称为源极(s)和漏极(d)。在源极漏极之间的衬底表面覆盖一层二氧化硅(SiO2)绝缘层,叫栅氧化层或栅绝缘层,在此绝缘层上沉积出金属铝层并引出电极作为栅极(g)。从衬底引出一个欧姆电极称为衬底电极(B)。
在MOS管中,源极为提供载流子的端子,而漏极为接收载流子的端子。NMOS管的源极通常连接至电路的最低电位,而源极连接至电路的最高电位。
源极S和漏极D与衬底之间形成了两个PN结即两个二极管。
市面上出售的绝大多数NMOS,衬底B通常与源极S连接在一起,这样两个电极的电位是一致的,可以避免体效应引起的阈值电压的飘移。因为衬底B与源极S连接在一起,所以衬底B和源极S之间的二极管被短路,只剩下衬底B与漏极D之间的二极管,积源极S与漏极D之间的体二极管图如下所示。