【IEDM2023】背势垒电荷运动诱导GaN HEMT随时间的非稳态击穿

2023年的IEDM论文详细探讨了GaNHEMT中背栅引发的导通态击穿过程中电荷运动,深入分析了其影响因素,旨在提升对器件行为的理解并优化设计策略。

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分享一篇2023年IEDM上GaN HEMT(高电子迁移率晶体管)的研究论文,标题为“Charge Movement in Back Barrier Induced Time-Dependent On-State Breakdown of GaN HEMT”。论文讨论了在GaN HEMT中,由于背栅(Back Barrier)引起的时间依赖性的导通态(On-State)击穿(Breakdown)现象中的电荷运动问题。

主要内容包括:

  1. 研究了GaN HEMT在特定条件下的击穿机制,特别是背栅对电荷运动和击穿过程的影响。
  2. 分析了电荷在器件内部的运动,以及这些运动如何影响器件的性能和可靠性。
  3. 论文可能还包含了实验结果、理论模型和模拟数据,用于解释和预测器件的行为。
  4. 论文的目的是提高对GaN HEMT器件物理的理解,并可能提出了改进器件设计和性能的方法。

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