精密光学测量4-光栅曝光

利用埃洛镜实现光的干涉

干涉现象是波动性的体现，

平行光出射的光一部分入射到屏上，一部分通过反射镜反射后入射到屏幕上，由于光是相干光，所以会发生干涉。产生的干涉条纹间距在光栅上主要表现为光栅常数。条纹间距g = λ/sinθ，通过调节光的角度，可以控制曝光出来的光栅常数。

曝光

将光栅基片固定到埃洛镜上面，让平行光照射到装有基片的埃洛镜上，控制曝光时间，大约经过30-100秒左右后，关闭激光。光刻胶由于被激光照射会被分解。

显影

显影主要是把剩余的光刻胶和显影水发生反应后固定到基片上面。

烘烤

显影之后烘烤5分钟，光栅便加工完成。
下面是在光学显微镜下观察到的光栅加工后的图像。