探究软阴影实现方式1

目前主流的软阴影的实现方式主要有以下几种，我们来分别的探究一下他们的实现方式并且对他们进行简单的分析。

• 通过过滤阴影贴图（PCF、PCSS）
• 预处理阴影贴图（VSM、ESM）
• 屏幕空间模糊（SSSS）

1.PCF（Percentage-Closer Filtering）

百分比渐近过滤(PCF)是一个简单，常见的进行阴影边缘反走的技术。它通过在片段周围进行采样，然后计算样本比片段的更接近光源的比例，使用这个比例对散射光和镜面光成分进行缩放，然后对片段进行着色。使用这一技术后，阴影边缘看上去进行了模糊一样。

但对于较大物体的内部的采样是一个较大的浪费，我们并无法只针对物体边界进行采样，所以在性能是具有很大的瓶颈。

2.PCSS（percentage-closer Soft Shadow）

pcss是距离相关的。2005年，Fernando发布了一种名为百分比接近软阴影（PCSS）的有影响力的方法。 它通过搜索阴影贴图上的附近区域来尝试找到所有可能的遮挡物。这些遮挡物与该位置的平均距离用于确定样本区域宽度。随着平均遮挡物越来越远离接收物并且更靠近光线，样本的表面区域的宽度增大。

如果找不到遮挡物，则该位置完全点亮，无需进一步处理。类似地，如果位置完全被遮挡，则处理可以结束。否则，继续对感兴趣的区域进行采样并计算光的近似贡献。为了节省处理成本，样本区域的宽度可用于改变采样的数量。 可以实现其他技术，例如，使用较低的采样率来获得不太重要的远距离软阴影。

PCSS的算法分成三个步骤:

• 首先，把目标点变换到Light space
• 然后找到周围点中的遮挡该目标点的点，记录其与光源的距离。
• 在搜索了一定的遮挡点之后，我们会根据这些遮挡点计算出一个平均遮挡距离。如果目标点不在阴影中，平均遮挡距离为0，PCSS算法直接返回1.0。

3.VSM(variance shadow map)

允许过滤生成的阴影贴图的一种算法是Donnelly和Lauritzen的方差阴影图.该算法将深度存储在一个贴图中，并将深度的平方存储在另一个贴图中。 生成映射时可以使用MSAA或其他抗锯齿方案。 这些贴图可以模糊，mipmap，放在SAT或使用任何其他方法。可以将这些贴图视为可过滤纹理是一个巨大的优势，因为从它们检索数据时可以使用所有采样和过滤技术。

VSM：分两遍pass渲染。唯一不同的是，在第一遍pass中，存储在Shadow Map中的是一个深度值（z-depth），而在Variance Shadow Map中，存储的是两个分量（two components）: 深度值与深度值的平方。这可以借助占用像素的两个通道来办到（比如R通道放深度值，G通道放深度值的平方）。接下来，就触及到该算法的核心：完成第一遍pass后，对VSM进行每单位区域（比如，仍然是2*2为一个range）的硬件线性滤波。滤波后每像素存储的两个分量，其意义就发生了微妙的变化：第一个分量表示该range内所有像素深度值的均值，也可以看作对应的期望，即上面的M1；而第二个分量表示该range内所有像素值的平方的期望，即上面的M2。依据M1和M2我们就可以求出该range的μ和σ。按照切比雪夫不等式，我们就可以估计出这片range内其深度值大于某一值t的概率上限。

第一遍pass中，我们逐一计算M1和M2并存储到VSM中，然后对这张VSM进行范围为range的硬件线性滤波；第二遍pass中，我们依然用视点角度渲染场景，对光栅化的每一像素，计算它在灯光坐标系中的深度值，并把这个值设为t；调取VSM中对应位置的像素，利用M1和M2计算出μ和σ，先判断t与μ的大小关系：如果t<=μ，则表示当前像素的深度小于等于range的深度均值，则判断它没有被遮挡；否则，判断它被遮挡，这时利用切比雪夫不等式计算出pmax(t)，该值表示range内深度值大于等于t的像素个数的概率上限，这个概率可以看作比率。该比率表示光照射到当前像素的光线数量（比t小的像素表示它遮挡住了当前像素，也就是说光线没有射到该像素上；相反，则就表示射到了t上），因此，这个比率就相当于光照强度，这是一个介于0到1之间的过渡数值。用它乘以黑色，就是最后实际的阴影值。注意，我们的算法是用上限值pmax(t)近似模拟了实际比率p(t)，但其实pmax(t) > p(t)，只不过二者相差不大。但这个误差依然会导致一些问题，会放到下面讨论。

4.ESM(exponential shadow map)

https://blog.csdn.net/codeboycjy/article/details/6302805