virtuoso版图问题汇总

简述

在使用TSMC65nm绘制振荡器版图时遇到问题汇总,解决问题时参考的链接也放出来了

环境

IC618
TSMC65nm

问题1:【PO.R.8】it is prohibited for floating gate if the effective source/drain is not connected together

未解决

参考

floating gate

提示

在这里插入图片描述
我仿的IP,所以暂时忽略这个问题

问题2:LVS时,显示自己画的衬底没有连接

Layout中衬底如何连接?
在这里插入图片描述
在器件里面设置,可自动生成衬底,左右两边都可以设置。

问题3:LVS的时候,Source netlist references but does not define 1 subckt:…

求助,LVS的时候Source netlist references but does not define 1 subckt:
在这里插入图片描述
一般在PDK里找到calibre文件里的LVS中的source.add文件在上图中添加。

问题4:Calibre LVS如何区分full chip和子电路

Calibre LVS如何区分full chip和子电路
在这里插入图片描述

问题5:pcellEvalFailed在这里插入图片描述

原理图导入版图是出现pcellEvalFailed,这是因为晶体管的宽度使用了变量,使用具体的数值就不会报错了。

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对于 Virtuoso 软件的版图绘制步骤,可以按照以下一般流程进行操作: 1. 打开 Virtuoso 设计环境:首先,打开 Virtuoso 设计环境,通常是通过在命令行中输入 "virtuoso" 命令来启动。 2. 创建新的工作库:在 Virtuoso 的主界面中,选择 "File" -> "New" -> "Library",然后输入一个工作库的名称并创建。 3. 创建新的版图:在创建好的工作库中,选择 "File" -> "New" -> "Cellview",然后输入一个版图的名称并创建。 4. 绘制原理图:在新创建的版图中,选择 "Layout" -> "Schematic Editor",然后使用绘图工具在原理图编辑器中绘制电路的原理图。可以添加元件、连接线等。 5. 生成版图:完成原理图的绘制后,选择 "Layout" -> "Schematic Editor",然后选择 "Layout" -> "Generate Layout",Virtuoso 将自动生成对应的版图。 6. 完善版图设计:对生成的版图进行修改和优化,如调整布局、添加金属层等。 7. 设定版图规则:通过设置版图规则来确保版图符合制造工艺要求。可以使用 "Design Rules Checker" 工具进行版图规则检查和修复。 8. 导出版图数据:完成版图设计后,选择 "File" -> "Export" -> "Export GDS",将版图数据导出为 GDS 格式,以便后续制造步骤使用。 以上是一个基本的 Virtuoso 版图绘制的流程,具体操作可能会因为设计需求和工具版本而有所差异。建议参考 Virtuoso 的用户手册或官方文档以获取更详细的操作指南。

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