design compiler之设计环境

本文详细阐述了设计环境在DesignCompiler中的重要性,涉及操作条件(PVT)、系统接口特性和线负载模型,特别强调了深亚微米工艺中需考虑的非线性因素。作者还提到了dc_shell模式和dct模型的区别,将深入探讨在后续博文中。
摘要由CSDN通过智能技术生成

设计环境是什么?

  1. 在综合之前我们需要定义实际设计所处的环境,从结果导向的角度来讲,设计环境定义的越准确,design compiler(以下简称DC)得到的报告越准确,越能反映真实的芯片设计情况。

设计环境的具体形式

  1. 一般情况下我们通过三类设置来对整个环境进行“近似”:操作条件,系统接口特性,以及线负载模型。
  2. 操作条件也就是常规的pvt,即process voltage and temperature variations,在温度,工艺,电压三种组合下的不同环境。
  3. 系统接口特性包括输入驱动能力定义,输入和输出的负载能力定义,扇出负载定义这三类四种,对应不同的set命令即可设置。而所谓的扇出负载不需要解释,就是要设置系统的扇出负载。
  4. 最后提到的线负载模型一般只在dc_shell模式下才会设置。指的是对电路中的wire的延时根据不同的逻辑进行建模,从而计算得到不同的延时。

操作条件在深亚微米工艺下的一些特殊情况

  1. 操作条件一般我们只需要去考虑最差的情况,即worst case情景下的数据即可,但在低于65nm的工艺环境下,一般需要考虑深亚微米情况下带来的一些非线性因素,即未必best case就得到最理想的数据,未必worst case就得到最差的情况,我们需要考虑中间一些base case的情况,可能会出现base case的情况优于或者差于wc或者bc的情况。

系统接口特性

  1. 系统接口特性就根据实际进行设置即可,一般按照buf的驱动能力进行driving cell的标准,按照inv的负载来作为load cell的标准。

写在最后

  1. 线负载模型一般有三种,top,enclosed,以及segmented,各有优缺点,但实际上都不是特别准确。
  2. dc提供了一种更精确的模型定义方法,称为dct,篇幅问题,下一篇博文会对比二者的区别,以及给出实际的工业级综合流程。
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