氮化钛 离子镀技术在金属钛表面镀上一属氮化钛薄膜|石墨烯/氮化钛(G/TiN)复合物|钢基底上生成了金黄色氮化钛(TiNx)膜|氮化钛(TiNx)薄膜|氮化钛(TiN)引入ITO薄膜

TiN薄膜具有NaCl 面心立方晶体结构,因具有较高的硬度、好的耐磨性、优良的抗腐蚀性而被广泛研究,并成为首先产业化应用的硬质薄膜,具有良好的应用前景。

为提高4Crl3不锈钢的硬度和耐磨性能,可在其表面制备一层TiN薄膜。为了达到一定的应用价值，探究工艺参数对薄膜结合力、硬度、耐磨性等性能的影响具有较大意义。工艺参数中的偏压直接决定靶材原子的沉积速度和工件温度,从而决定薄膜的组织结构和性能,因此对薄膜质量的影响较大。文中主要研究偏压对TiN 薄膜表面形貌、硬度、相结构及耐磨性的影响。

偏压对薄膜表面形貌的影响

由图1可看出,薄膜表面分布着尺寸不均的白色液滴。当偏压为0 V时,薄膜表面较为粗糙,大颗粒较多且有少量凹坑,随着偏压的增大,薄膜表面逐步变得致密平整,凹坑逐渐消失见图1b)。当偏压增大到300 V时,薄膜表面的颗粒尺寸和数量均明显减小,薄膜表面变得光滑平整。偏压继续升高到400 v时﹐薄膜表面大颗粒基本消失,只有少量尺寸1 ~5um的小颗粒。由此可见在薄膜沉积过程中,偏压的大小直接影响着薄膜的表面质量。引入偏压后，Ar+在等离子区的运动可以使从靶材上溅射出来的液滴在行进中被“粉碎”;Ar+对基体表面的不断轰击又能使基体表面的部分液滴发生溅射,从而尺寸减小;此外,Ar+不断碰撞基体表面,其大部分能量会转化成热能,使得基体温度升高,进而增加了原子的扩散,使得薄膜结晶过程充分进行,减少了薄膜表面的孔洞缺陷;因此,在较高偏压下制备的薄膜表面质量得到显著改善(见图1d)。

偏压对薄膜相结构的影响

由图2可知,薄膜主要由TiN和Ti组成。Ti来自预先沉积的过渡层和沉积过程中表面的液滴。随着偏压的升高,薄膜表面的液滴大量减少,Ti的峰值减弱,同时220>晶面衍射峰有明显的增强趋势。当偏压在0 ~300 V之间变化时,薄膜以(111)晶面择优取向为主;当偏压为400 V时，(220)晶面的衍射峰增强。

1）负偏压对薄膜的表面质量影响较大:当偏压为0 V时,薄膜表面凹凸不平,液滴和大颗粒较多;随着偏压的增大,薄膜表面的液滴和颗粒减少且变小，薄膜表面变得光滑,致密性也得到提高。

2）在不同偏压下，TiN 薄膜均呈现出(111)晶面择优取向,但随着偏压的增大,这种择优取向逐渐减弱。当偏压达到400 V时,薄膜在 (220)晶面的峰值逐渐增强。

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