STT-MRAM 和 TOGGLE MRAM 抗磁能力差异的分析

抗磁能力差异的主要原因是STT-MRAM的各项异性场(HK)比toggle MRAM高很多,toggle的Hk一般不到1000Oe,STT-MRAM的Hk在3000Oe左右。

各项异性场理解为MTJ(垂直磁化的CoFeB/MgO/CoFeB磁性隧道结,通俗讲就是存储器的关键核心器件,就是存数据的地方)自身带有的磁场强度,显然自身的磁场越强,就越不容易受到外磁场的干扰。

各项异性场的差异主要是由于MTJ薄膜的材料、结构、尺寸的不同导致的。toggle MRAM的MTJ是基于形状各向异性的,MTJ是椭圆形,椭圆的长宽比越高,Hk越大,但相应的位元密度就小了,因此为了保证位元密度,Hk不会做的很大。而垂直磁化的STT-MRAM是基于磁性层界面的各项异性,通过调整界面即可将Hk也可以做的比较大,不需要做成椭圆,因而具有更好的可微缩性,在先进工艺节点、高密度存储需求中拥有巨大的应用潜力。

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