磁存储芯片STT-MRAM的特点

随着半导体工艺的发展,磁存储芯片(STT-MRAM)因其高性能、低功耗等特点成为热门研究方向。STT-MRAM能与CMOS工艺兼容,实现高密度存储,并拥有SRAM级别的读写速度。应用于芯片设计中,STT-MRAM能显著降低漏电流及静态功耗。

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随着半导体工艺技术的不断进步,芯片工艺制程的不断演进和成本的不断降低,半导体芯片广泛应用在物联网、个人终端、汽车电子、可穿戴设备、工业互联网等各个领域。随着芯片工艺的逐步升级,性能问题已不在是芯片设计环节的主要瓶颈,如在很多手持设备领域,低功耗设计成为了芯片设计中的关键核心问题。通过引入一种基于磁存储芯片作为内部存储器件的芯片架构,同时也用作芯片内部的高速缓存,能够有效降低芯片漏电流,有效地提升了设备使用时间,降低了整体的TCO成本,大大提升了产品竞争力。

在众多新型非易失性存储介质中,磁存储芯片(STT-MRAM)能够与CMOS半导体工艺良好兼容,利用较少的金属层即可以做到存储单元的高密度集成。同时由于其接近于静态随机存储器(SRAM)的读写速度﹑极低的静态和动态功耗、掉电不易失的特性、接近于无限的擦写次数,高温下长时间的数据保持能力以及抗强磁场辐射等特性,是作为企业级SSD控制器中数据缓存和FTL表项存储的天生优良介质。

当前众多半导体设计大厂都将MRAM芯片作为下一代非易失性存储介质的研发重点。除了台积电、三星和东芝一直在持续推进STT-MRAM 的研发之外,美国的 Everspin MRAM公司早已发布了量产STT-MRAM芯片。

将嵌入式STT-MRAM应用在芯片架构设计中,充分利用其掉电不易失数据的特性,能够对存储部分进行完全的关电设计,从而显著降低整个芯片的漏电流和静态功耗。

存内计算(In-Memory Computing, IMC)是一种新兴的技术,它将数据存储和处理功能集成到内存模块本身,旨在减少数据传输时间,提高计算机系统的性能。存内计算芯片主要可以分为以下几类: 1. **相变内存** (Phase Change Memory, PCM):利用材料的相变特性,在电阻性随机存取存储器(RRAM)基础上发展而来,能够同时存储和执行简单的运算。 2. **性随机访问存储器** (Magnetic Random Access Memory, MRAM):如STT-MRAM和SOT-MRAM,通过内置的性单元进行计算,可以在读写操作中进行部分处理。 3. **电荷存储内存** (Charge-based Memory, CBM):如DRAM(动态随机存取内存)的改进版本,比如NRZ(非归零)和RZ(归零)架构,通过存储电荷的不同状态来进行算术运算。 4. **神经形态计算** (Neuromorphic Computing): 这种类型的芯片模仿人脑的工作原理,通过模拟神经元网络结构进行并行计算,常用于处理机器学习任务。 5. **3D堆叠技术**:通过垂直整合多层电路,允许数据在多级存储层次之间流动,同时执行一些基本的计算操作。 6. **近内存计算** (Close to Memory Computing, CTMC) 或 **存算一体** (Memory-Centric Processing):设计存储阵列自身包含一定计算能力,降低数据移动的需求。 每种技术都有其优势和局限性,选择哪种取决于应用场景、功耗需求以及兼容现有系统的能力。
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