MicroSplat系列翻译【二】：曲面细分（Tessellation Module）

MicroSplat

原文档: https://docs.google.com/document/d/1F94JgR2y8zyaxJLVQ4K77tXzRGwfeLJyyX5kgD_BoTU/edit#heading=h.rrar1dgps27e

以下翻译为机器翻译有错误请指正

概述

"细分曲面（Tessellation）和视差（Parallax）“模块增加了对"细分曲面(Tessellation)”、"视差偏移(Parallax Offset)"以及"Parallax Occlusion Mapping - POM"的支持，这些功能可以极大地增强场景的深度效果。

需求

细分曲面需要shader model 4.6，也就是说，它可以在运行DX11或Vulkan的Windows机器上工作，也可以在运行OpenGL或metal的OSX机器上工作，大多数游戏主机以及一些高端手机也支持。

Shader Features

"Tessellation和Parallax"选项可以开启/关闭这些特性。Parallax的"Offset"可以增加表面的深度感，而不实际改变几何形状，而"Tessellation"则是将几何形状进行细分和位移。这两种技术可以独立使用，也可以结合使用。

Parallax Offset模式只有一个选项，那就是"视差高度(Parallax Height)"，它控制了应用效果的程度。如果你把"视差高度"设置得过大，那么物体的表面纹理可能会看起来像是被拉长或者扭曲了，这就破坏了原本的视差效果。

另一种视差类型是"Parallax Occlusion Mapping"，简称POM。POM通过沿视线方向多次采样纹理，直到找到与高度图的交点，从而创建出深度感。POM可能会有一些副作用，其中之一就是在处理曲面（大多数地形都是曲面）时可能出现的一些不自然的效果。不过这在着色器中使用了一些技术，用来减少或者消除POM的副作用，但是有一些特别大或者显著的地形特征，比如山脉、峡谷等使用POM可能会产生一些微妙的波动效果。因此，POM在使用有小细节或者大量平铺的纹理时效果最好。

请注意，POM与Triplanar纹理是不兼容的。

POM 可能会非常消耗性能，因为它可能需要对纹理进行大量的采样。为了缓解这个问题，你可以控制采样的最大数量，并且随着距离的增加逐渐降低效果。同时，你也可以设置随着距离的增加，POM的效果逐渐减弱，这样可以在不影响近处的视觉效果的同时，减少远处的计算量。

Tessellation

以下是细分曲面可用的主要着色器参数的描述：

参数	描述
Displacement	位移应该将顶点推离原始表面多远？
Mip Bias	Mip Bias决定了我们在采样纹理时，应该偏好哪个级别的mip map。较高的值通常会使性能更好，并使位移更加平滑。
Shaping	这是一个用于控制细分曲面的参数。较低值会在纹理之间创建比较宽广的过渡，这通常看起来比锐利的过渡更好。
Up Bias	当设置为0时，位移（Displacement）发生在法线的方向。当设置为1时，位移直接向上发生。
Tessellation	应该将三角形细分多少。较高的细分曲面值看起来更好，但是更耗费性能。
Min Distance	开始细分和位移几何体的距离。
Max Distance	细分和位移几何体结束的距离。

技巧和提示

• 这些效果的质量直接与你的高度图的质量成正比。因此，建议使用纹理打包器的PBR模式提供实际的高度图，而不是依赖自动生成的高度图。
• 视差和细分曲面的结合可以非常强大。启用视差后，你通常可以使用较少的细分和位移，但在纹理上获得类似的深度效果。
• 对于细分来说，Per-Texture 标签页提供了一些功能。当启用“Tess Offset”属性时，会出现一些按钮，这些按钮可以让你根据纹理数据自动计算出适当的偏移量，使得细分后的地形能尽可能地接近原始的碰撞器。

MicroSplat插件文档翻译【一】: Texture Cluster