写在前面:
前面《光刻机镜头光学设计探秘. 第二部分EUV》文中解释的光学系统为6片式离轴非球面反射系统,通过它我们了解到了离轴反射系统的独特魅力。
由于共轴反射系统光束遮挡,有很多应用场景也都要使用离轴反射系统,当然,这些应用不需要EUV光学系统这么高的复杂度,其中就以离轴三反这种应用居多。本文以离轴三反成像系统的表亲——便携式光谱仪光路为例,简介离轴反射式系统的Zemax建模方法。
当然,光谱仪光路也是光通信器件中MEMS Tunable Filter/WSS/DGM等模块的基本光路形态。
提示:本文将用到较多Coordinate Break,请同学们尽量先熟悉Zemax中Coordinate Break面型定义和坐标变换的基本方法,要么看起来会有点懵…
Keywords:
Off Axis Reflecting System, OpticalSpectrum Analyzer
抛物面反射镜:
照我的习惯,还是从最基本的定义开始。
抛物线定义:到定点与定直线距离相等的点的轨迹,其中定点为抛物线焦点,定直线为抛物线准线。