集成电路反向分析技术_集成电路布图设计的法律保护

一、集成电路布图设计的概念

我国《集成电路布图设计保护条例》第2条第2项规定: “集成电路布图设计(以下简称布图设计)，是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。”

二、集成电路布图设计的特征

(一)客观表现性

集成电路布图设计是集成电路中所有元器件之间的一种配置方式，是没有具体形状的、抽象的并以一种信息状态存在，不占据任何空间的组合。但是布图设计可以固定在一定的载体上，集成电路布图设计虽然是无形的，但它同其他无形财产一样，具有客观的表现形式。

(二)创造性和实用性

集成电路布图设计只有具有创造性才受法律保护。按照知识产权法律原理，一般都在其法律中要求布图设计必须具有创造性和实用性，布图设计的创造性要求设计人必须对其布图设计有独特的创造之处，有不同于以往设计的特点，才能受到法律的保护。此外，布图设计与以往的设计相比除了具有一定的进步性和新颖性之外，还必须具有实用性，必须能够应用于工业实践，并且对社会生活具有积极的作用，才能被广泛的采纳并获取利益。

(三)布图设计是独立的知识产权客体

布图设计是独立的知识产权客体，但与专利、商标不同，因此，从世界范围看，绝大多数国家都不是通过专利法或著作权法来保护d的，而是依据其特点，制定单行法规，将其作为独立的客体予以保护。我国于2001年10月1日起施行的《集成电路布图设计保护条例》，也是采用了专门立法的形式来保护集成电路布图设计。

二、集成电路布图设计权的取得与保护

(一)集成电路布图设计权的取得方式

我国对集成电路布图设计权利的取得采取登记制，即布图设计创作完成后，创作人或其他欲获取专有权的人必须向向国家知识产权局办理登记手续后，才能取得专有权。因此，为尽快争取时间，创作人应先申请集成电路布图设计登记，再申请相关专利权，既可以帮助企业更好保护自己的技术，减少时间成本，又可为企业申请双软高新等名号提供更多材料，进一步获得税收减免和资金支持。

(二)集成电路布图设计权的保护期限

布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计登记申请之日或在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受保护。

(三)集成电路布图设计权的限制

1.运用反向工程对布图设计进行复制，不构成侵权。所谓反向工程，是指对他人的布图设计进行分析、评价，然后根据这些分析评价的结果创作出新的布图设计。

2.合理使用，即为个人目的或者单纯为评价、分析、研究、教学等目的而复制受保护的布图设计的，可以不经布图设计权利人的许可，不向其支付报酬。

3.权利穷竭，也称首次销售、权利用尽制度，其含义是指布图设计权利人将布图设计或含有布图设计的元件产品投入市场后，对与该布图设计有关的商业利用行为，不再享有禁止权。