集成电路布图设计独创性判断标准

0 引言

中国《集成电路布图设计保护条例》第四条规定：“受保护的集成电路布图设计应当具有独创性，即该集成电路布图设计是创作者自己智力劳动成果，并且在其创作时该集成电路布图设计在集成电路布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。受保护的由常规设计组成的集成电路布图设计，其组合作为整体应当符合前款规定的条件。”

其中，独创性首先要具备独立创作性，即布图设计是创作者独立创作，这是对创作者的主观要求；其次，还要具备非常规设计性，即对于布图设计创作者和集成电路制造者来说，该项布图设计作为整体或者其部分与公认的常规设计对比，二者在图层数量、布局、连线、模块、元件等技术细节上具有实质性区别，这是获得专有权的客观要求。公认的常规设计，是指在创作布图设计时布图设计创作者和集成电路制造者能够从布图设计领域的教科书、技术词典、技术手册、通用标准、通用模块等资料中获取的设计以及根据基本的设计原理容易想到的设计。

独创性是集成电路布图设计受到保护所需满足的要件，其标准应当介乎于专利法的创造性和著作权法的独创性之间。无论是判断享有专有权的布图设计的独创性部分，还是判断反向工程的布图设计是否具有独创性，都需要满足保护条例第四条的规定。

1 布图设计的独创性要件

根据保护条例第四条规定的独创性包括独立创作性和非常规设计性。

1.1独立创作性——不能抄袭，不要求首创

（1）非抄袭。“布图设计是创作者自己的智力劳动成果”，即布图设计从无到有独立地创造出来的，或以他人己有作品为基础进行再创作，并非抄袭、剽窃得来。集成电路布图设计专有权是一种私权，具有一定的排他性，这就决定了对他人的智力劳动成果和公有领域的知识不能据为己有。集成电路布图设计专有权的保护目的是鼓励表达方式的多样化和技术的先进性，而抄袭和复制是与多样化和先进性完全相悖的行为。因此专有权的获得应建立在独立创作的基础上，所以集成电路布图设计的独立创作性要求创作者思想的独立表达，而非对其它作品的抄袭，和简单模仿。

（2）不需要首创。集成电路布图设计的独立创作性仅强调集成电路布图设计是独立原创完成的，而并不要求是首创的。如果在第一布图设计成功出来后，第二创作者经过辛苦和努力也制作了同样的布图设计，且和第一布图设计者并没有接触，那么这样创作的作品也是受到保护的。这不同于专利法中新颖性，并不排斥保护两个以上各自独立创作取得但内容非常相近甚至完全相同的集成电路布图设计。但是要注意独立创作不能违背集成电路布图设计专有权不保护公有领域的常规设计。

因此，从独立创作性的角度来看，只要求创作者在接触了他人类似集成电路布图设计的情况下，保证表