本文介绍了如何在UE4中利用后期材质实现场景转换，特别是晚上时物体描边与扫描线结合的效果。通过自定义深度进行描边，确保不干扰自发光物体，并防止描边穿透其他物体。描边的关键在于切换到After Tone Mapping模式以减少闪烁。扫描线分为圆形发散和条状扫描，使用场景深度作为遮罩避免超出范围。对于自发光物体的排除，通过高光阈值创建遮罩。最后，通过节点相加防止描边穿透不描边的物体。
需求是通过后期材质实现白天晚上变换，并在晚上实现扫描线跟物体结合处物体描边，并且要不影响自发光物体。
于是总结做法
1，描边要用自定义深度的方式去做，这样可以定制哪些物体描边哪些不描。
2，要做一个圆环或者条状的扫描线
3，通过某种方式排除掉后期对自发光物体的影响。
4，被描边物体的边线不能穿透没有描边的物体。
下面把自己的实现方式及思路讲一下。
一：描边
把BlendableLocation,切换到After Tone mapping 模式这样能够避免描出来的边闪烁的问题。
二：扫描线的效果
扫描线我做了两种，一种是由一点做圆型的发散，一种是条状从一段扫描至另一端
注意画圈的部分，这部分很关键需要给条形的扫描线加个限制不然能扫到天空球上去。用场景深度跟一个值做比较做一个遮罩并跟条形扫描线做乘法就能排除掉距离外的扫描线。
三:如何排除自发光物体
这种方法有点小麻烦，思路就是高光大于0.5的显示为白色，小于0.5的显示为黑色，这样就能做一个遮罩出来，所以需要现在不想被后期影响的物体里把高光度给个大于0.5的值。
四：让描边不穿透不描边的物体
跟描边那串节点相加。
至此任务完成。
在网上参考了很多大佬的文章，加上自己的一些理解，毕竟自己不是科班出身很多东西理解的不深入。要学习的地方海有很多，有理解错误的地方还请大家指点。
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