一种新型光束均一化整形元件-文献阅读随笔

-Zhongyuan Liu，et al. A beam homogenizer for digital micromirror device lithography system
based on random freeform microlenses [J].Optics Communications.2019

光刻技术是集成电路生产的核心技术，对于信息技术的发展有重大影响。对于信息技术的发展有重大影响。
随着集成电路的不断发展，对于光刻技术的要求也不断增长。由于DMD具有无掩膜、快的反应速度和低成本等特点，广泛用于光刻加工中。
DMD光刻系统通常采用半导体激光器，光束的均一性对系统的精度有很大的影响
非均一性光束入射至DMD上会导致分辨率不连续，并且会导致高斯光束能量分布不均
MLA是一种通用的光束均一光学元件。传统的MLA整形元件是由一个傅里叶镜和两个规则的tMLA（TandemMLA）组成但是在MLA整形元件中tMLA的存在会带来以下缺点：
1.数量过多，体积过大，难以统一
2.因为DMD与整形元件的光轴不垂直，光束均一性差
3.由于tMLA的周期性结构和激光入射的连续性，DMD上模型会出现明显的干涉
研究表明，旋转或移动微镜可以抑制模型的干涉，而Wippermann等采用楔型结构的啁啾微镜减少模型干涉，但这两种方法只能解决模型干涉的问题，但解决不了其他问题
因此，在这篇文章中，作者提出了一种基于任意形态微透镜的光束整形器（random freeform microlens array，rfMLA）。rfMLA的元器件数目大幅度减少，其集成度大大增加。并且由于微镜数目的减少，由微镜吸收和反射造成的能量损失也大大减少。
rfMLA是由多个自由小微镜组成的，每个小微镜底面都是任意形状，而前面呈长方形。根据相应的能量关系，每个自由形态表面的设计都可以将均一化光束投射到DMD表面上去。将每个前表面设计呈随机的不同的长方形，从而使MLA呈连续性结构，可减少模型干涉。通过模拟rfMLA的光束整形效果，可以发现其能量效率为69.70%，非连续光与连续光的均一性分别为97.60%和94.33%，而传统的MLA的三种参数分别为62%，91.93%，79%，但是值得注意的是，这种新型光学元器件仅有一种元件，并且光源与fMLA之间的距离可以设计的十分短，能很好的保证集成度。