晶体管电路设计

文章介绍了晶体管和FET的基本概念,包括它们的工作原理。晶体管是通过电流控制输出的电流控制器件,而FET则是电压控制器件,其工作依赖于栅极上的电压来控制漏极与源极间的电流。此外,还提到了PLD(可编程逻辑器件)和ASIC(专用集成电路)的相关概念。
摘要由CSDN通过智能技术生成

参考书目:《晶体管电路设计》——[日]铃木雅臣
0基础,纯小白,笔记

一、晶体管、FET和IC

PLD——Programmable Logic Devicem,可编程逻辑器件
ASIC——Application Specific IC,专用集成电路

1、晶体管和FET的工作原理

Q:何为放大工作?
A:大小与输入信号成正比的输出信号可以认为是从电源来的。由电源来的输出信号形状与输入信号相同,而且比输入信号的电平高。所以由外部看上去,可以看成输入信号被“放大”,这就是晶体管或FET的放大原理。(P4图1.2、1.3)(晶体管或者FET的输入信号通过器件而出来,晶体管或者FET吸收此时输入信号的振幅信息,由电源重新产生输出信号。由于该输出信号比输入信号大,可以看成将输入信号放大而成为输出信号,这就是放大的原理。)

1.1、晶体管的工作原理

1.2、FET的工作原理

FET——Field Effect Transistor,场效应晶体管
FET晶体管的一种,也叫单极晶体管,通常所说的晶体管是指双极晶体管。
FET有三个极,即栅极(Gate)、源极(Source)和漏极(Drain)
在这里插入图片描述
P11 图2.4,双极晶体管电路与FET电路工作上最重要的不同点。
双极晶体管是由基极电流控制集电极与发射极之间电流流动的器件,是由电流控制输出的,所以叫做电流控制器件
FET是由栅极上所加的电压控制漏极与源极之间的电流流动的器件,是由电压控制输出的,所以称为电压控制器件

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