UE5 5.0正式版 新功能详解

1、下一代实时渲染：

Lumen - 一种完全动态的全局照明解决方案，使您能够创建可信的场景，其中间接照明会动态适应直接照明或几何形状的变化 - 例如，随着一天中的时间改变太阳的角度，打开手电筒，或打开外门。使用 Lumen，您不再需要创作光照贴图 UV、等待光照贴图烘焙或放置反射捕获；您可以在虚幻编辑器中简单地创建和编辑灯光，并看到您的玩家在目标平台上运行游戏或体验时将看到的最终灯光。

Nanite - UE5 的新虚拟化微多边形几何系统Nanite让您能够创建具有大量几何细节的游戏和体验。直接导入由数百万个多边形组成的电影质量原始文件——从 ZBrush 雕刻到摄影测量扫描的任何内容——并将它们放置数百万次，同时保持实时帧速率，并且没有任何明显的保真度损失。优化了磁盘Nanite文件大小，比UE5 Early Access抢先版少占20%空间，Tools/Nanite Tools工具检查Nanite不兼容问题，Nanite 网格改进支持光照贴图，在 UV 接缝上没有伪影，只支持DX12，不再支持DX11，UE5项目默认RHI流程用DX12

注：Lumen 和 Nanite 等一些主要新功能尚未针对非游戏工作流程进行验证（这是未来版本的持续目标）

专为 Lumen 和 Nanite 配合使用而设计的虚拟阴影贴图 (VSM)以合理、可控的性能成本提供合理的软阴影。Nanite 和 VSM 仅对您可以感知的细节进行智能流式传输和处理，在很大程度上消除了多边形数量和绘制调用约束，并消除了将细节烘焙到法线贴图和手动创作 LOD 等耗时的工作——让您可以专注于创造力。 阴影贴图光线追踪（SMRT）通过接触硬化产生似是而非的柔和阴影，比Percentage-Closer Filtering（PCF）更清晰，更多细节，更准确，Lit/VSM/Shadows Mask显示模式可以单显SMRT阴影，

下一代游戏机带有下一代玩家的期望。玩家需要在高分辨率显示器上达到 60 fps 或更高的帧速率，这给渲染资源带来了巨大压力。具有时间超分辨率Temporal Super Resolution (TSR)，一个内置的、独立于平台的、高质量的上采样系统，引擎可以以低得多的分辨率进行渲染，但输出像素保真度与以更高分辨率渲染的帧相似。结果？更好的性能。TSR将取代时域抗锯齿（TAA），输入分辨率1080p输出分辨率4K，有更高帧速率和渲染保真，减少TAA方法的重影闪烁问题，支持控制台动态分辨率，用TSR实现接近原生4K图像质量，GPU消耗 减少50%，

2、新的开放世界工具集：

我们持续的目标之一是让各种规模的团队更快、更轻松、更协作地创建开放世界。借助UE5，新的世界分区系统改变了关卡的管理和流式传输方式，自动将世界划分为网格并流式传输必要的单元格。 
团队成员现在还可以同时在同一个世界的同一个区域工作，而不会互相影响，这要归功于一个新的每个演员一个文件 (OFPA)系统，而使用数据层，您可以创建同一个世界的不同变体——例如白天和夜间版本，或者完整和破碎的几何图形——作为存在于同一空间中的层。
最后，我们为在 UE5 中创建绝对庞大的世界奠定了基础——无需变基或其他技巧——最初支持大型世界坐标 (LWC)，它在后台使用双精度值。其中正在对所有引擎系统实施大量更改以提高浮点精度。这些系统包括建筑可视化、模拟、渲染（Niagara 和 HLSL 代码），以及具有大规模世界规模的项目。虽然已经做了大量工作来确保大世界坐标在 UE5 中的性能和随处可见，但由于我们尚未解决发布时的精度问题，在距离原点很远的一些系统中仍然存在一些限制。

被许可人可以立即开始将他们的代码转移到这些新的数据类型上，但是在我们验证引擎中的所有系统在大规模上与当前系统一样有效地工作后，将在 5.1 中全面支持创建和填充大型世界. 然后，我们将最大世界大小默认变量设置为绝对大规模。

在UE4中，32 位浮点精度类型会限制世界的大小。LWC 通过为您的核心数据类型提供 64 位双精度来极大地提高项目的规模。这些新变化将使您能够构建庞大的世界并大大提高 Actor 放置精度和方向精度。由于大世界坐标使用双精度类型，PhysX物理系统与 UE5 不兼容。

3、内置角色和动画工具：

使用 DCC 包不断往返以调整和迭代动画是耗时、乏味且低效的。使用UE5，您可以在上下文中制作动画，重用现有动画，并在运行时调整动画以适应游戏条件。
对于动画创作，有一套强大的新的艺术家友好工具，使您能够直接在虚幻编辑器中工作。亮点包括能够快速轻松地创建绑定并使用增强的、可投入生产的控制绑定在多个角色之间共享它们，然后在 Sequencer 中为它们制作动画，您可以在其中使用新的姿势浏览器保存和应用姿势，并应用混合关键点使用Tween 工具处理下冲或过冲。

当时间至关重要时，为什么要重新发明轮子？在 UE5 中，全新的重定向工具集使您能够快速轻松地重用和增强现有动画。新的IK Rig系统提供了一种交互式创建 IK 解算器（包括新的全身 IK），替换UE4的旧版定位管理器。IK Rigs使用IK Retargeter，您可以在具有不同骨骼和比例的角色之间传输动画 - 例如，您甚至可以将人类的动画重新定位到狼。同时，IK Rig 使您能够执行诸如附加调整角色动画之类的操作，例如使移动角色始终注视目标，Control Rig 现在已准备好生产并默认启用。
您还可以使用许多新功能在运行时调整动画，以补偿不同的游戏场景（例如不同的速度或地形），以获得更好的可信度和沉浸感。运动变形使您能够通过单个动画动态调整角色的根部运动以与不同的目标对齐（例如，翻越不同高度的墙壁）。同时，您可以使用距离匹配来控制动画的播放速率，和/或使用姿势扭曲来动态调整姿势以更好地匹配游戏中角色的动作。 可以在 Control Rig 中使用Python 脚本来自动化工作流程并为装配过程创建工具。您还可以使用Control Rig Python 日志对命令进行逆向工程并复制脚本以共享到其他项目。

4、编辑器内建模、UV 编辑和烘焙：

动画并不是您需要花费更少时间往返 DCC 包的唯一领域。UE5 看到了用于网格建模、UV 编辑和烘焙的显着扩展和增强的工具集；它们结合起来形成了一个强大的工作流程，使艺术家能够直接在虚幻编辑器中开发和优化资产。这些工具在处理密集网格时特别有用，例如使用 RealityCapture 等摄影测量工具或通过 kitbashing Quixel Megascans 生成的网格。
有大量用于网格创建和编辑的新的和增强的工具，代表了一个根本性的飞跃。这些更新还包括对核心建模、雕刻以及重新划分网格和简化的多项增强——得到为未来工具创建框架的架构进步的支持。关注此空间！ 
同样重要的是，我们对UV 编辑工具套件进行了重大更新和扩展。新的 UV 编辑器面板支持在 2D 空间中布局、选择、转换、剪切和缝合 UV；查看、复制、添加和删除 UV 通道；自动解包；并使用检查器或自定义纹理进行 3D 预览。Project UV 和 Auto UV 也有改进。
最后但并非最不重要的一点是烘焙和网格属性工具集得到了显着扩展。新的烘焙工具改进了法线、AO 和顶点烘焙，而多重采样、纹理过滤、UV 层和 N 对 1 烘焙也是更新工具集的关键特性。

5、增强的编辑器 UI 和工作流程：

是时候改头换面了！虚幻引擎 5 具有现代化的外观、简化的工作流程和屏幕空间的优化使用，使其更容易、更快、更令人愉悦。
随着Quixel Bridge 现在完全集成，您可以直接拖放访问整个 Megascans 库（和Bridge独立版 素材库不兼容，同路径不识别），无需单独的下载步骤。它是新创建菜单的一部分，为获取内容以及创建和放置 Actors 提供了一个单一位置，具有简单的拖放工作流程和对最近使用的 Actors 的一键访问，从而可以更快、更轻松地填充您的场景。 

为了腾出更多空间用于视口交互，同时仍保持工具和内容触手可及，我们添加了通过热键或按钮轻松调用和存放内容浏览器