薄膜沉积的均匀性怎么计算？

   知识星球（星球名：芯片制造与封测技术社区，星球号：63559049）里的学员问：经常听带我的工程师说膜层的均匀性不好，均匀性是怎么计算的?

什么是薄膜沉积的均匀性？薄膜均匀性指的是薄膜在整个晶圆上的厚度分布的一致性。良好的均匀性说明薄膜在晶圆上的每个位置的厚度非常接近。 薄膜均匀性有几种？一般会考虑：片内均匀性（within-wafer uniformity）、片间均匀性（wafer-to-wafer uniformity）和批次间均匀性（lot-to-lot uniformity）。 均匀性如何计算？
以片内均匀性为例，计算其标准偏差：

该公式计算了各个数据点与数据均值之间的差异的平方平均值，然后取其平方根。

σ（标准偏差）：表示数据分布的离散程度，标准偏差越大，数据的离散程度越大。

N：所测的数据点的总数。

ti：第 𝑖个数据点的厚度值。

Mean：所有数据点的平均值。

(𝑡𝑖−Mean)2：每个数据点与平均值之间差异的平方。

∑：相加。

公式比较难以理解，举例说明：

假设有一组薄膜厚度数据点：55.1,54.8,55.3,54.9,55.0,54.7,55.2,54.9,55.1,54.8计算其标准偏差？

1 ， 首先，计算这10个点的均值： Mean =54.982，再计算每个厚度与均值的差的平方分别为：0.0144，0.0324，0.1024，0.0004，0.0004，0.0784，0.0484，0.0004，0.0144，0.03243，求和并取平值 (0.0144+0.0324+0.1024+0.0004+0.0004+0.0784+0.0484+0.0004+0.0144+0.0324)=0.39964，σ=0.193       欢迎加入我的半导体制造知识社区，答疑解惑，上千个半导体行业资料共享，内容比文章丰富很多很多，适合快速提升个人能力，介绍如下：》