介绍一下芯片的VIA pillar

VIA Pillar(又称VIA Ladder)是应用于5nm及以下先进工艺制程的一种技术,用于减少电阻并改善电迁移问题。通过在不同金属层间创建多条电流通路,该技术能提升电路性能,降低IR drop,优化DFM。尽管有占用绕线资源的缺点,但在特定如clock cell的设计中,VIA Pillar提供了优于传统via堆叠的优势。
摘要由CSDN通过智能技术生成

Via pillar,又可以叫Via ladder。貌似Cadence家喜欢叫pillar,synopsis喜欢叫ladder,我也不知道它们为啥不能统一一下名称。这应该是这两年新出的概念,主要应用在5nm及以下先进工艺制程中。我就以我个人的理解稍微介绍一下这种技术。

Pillar,柱子,ladder,梯子。它指的是这样一种结构:当需要把金属从低层连到高层时,比如M1到M5,每一层都多添加一些shape,这些shape分别与上下层彼此通过VIA相连,最终连到M5再合并为一个shape出来,中间的M2到M4就像一个个井字或者田字,就像我们玩的抽木块的游戏一样。更具体一点,比方说一个clock cell M1出Z pin,我现在给他上了NDR,希望他能在M5层绕线。传统的方法就是直接一摞via直接叠上去,电流路线只有一个。现在用了via ladder,我可以pin上打三个via,然后M2接3个shape;然后M2上每个shape打两个via,M3接两个shape,每个shape都接到M2的三个shape上。这2个还是3个还是更多都是可以指定的。如此一来,每层金属不再是单一的一个via,而是相当于增加了多个shape,有多条电流通路,给人的感觉就像整个结构的支撑更多了。

那么,这样的设计意义何在?可能大家也能猜到了,最重要的意义就是减小了电路的电阻,并且分担了电流,能有效改善EM(电迁移)的问题。相对于

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