前言
在使用MOS管的时候经常对NMOS管和PMOS管的符号记不清,对他的原理也模糊,学了忘,忘了学,现打算对他彻底了解一下,学习资料来自B站视频,百度,和一些书本,总结如下。
一:MOS管前的故事
MOS管作为电子产品里面常见的器件,在他被发明出来前又有哪些器件呢?他又是在什么基础上发明出来的呢?
1:二极电子管的诞生
爱迪生在研究电灯泡的时候,想解决灯泡发黑的问题,在灯泡里面加入一个铜片,问题没有得到解决,但是发现了一个现象,灯丝加热后,当铜片接上正电压的时候 铜片上会有微小电流通过。爱迪生把他申请了专利,没有继续往下研究。
英国电气工程师弗莱明根据爱迪生效应,在真空灯泡里装上碳丝和铜板,充当阴极和屏极,使用时 将阴极加热,电子 跳出来,屏极时正极的时候,吸收电子,导电,这个就是二极电子管,单向导电。后面再经过多人的努力,才解决了 阴极材料容易老化,电流低,效率低等问题。
2:三极电子管的出现
美国发明家福雷斯特为了避开电子二极管的专利,在灯丝和金属片之间又加了一个极,称为栅极,在这个上面加上微小的正电压,可以让阴极和屏极 之间的电流发生大的变化,负电压让电流小,正电压让电流变大。后面经过多人的努力,加入正反馈,使得三极管的应用广泛。
电子管出道即巅峰,但因为体积大,功耗大等缺点,开始被后来出现的晶体管取代
3:半导体的出现
4:晶体三极管的发明
二:MOS管起源与发展
晶体三极管发明使用后,各种技术渐渐成熟,在此基础上,发明出了MOS管。
三:MOS管的基础知识
1:MOS管的构造
先看看这三种元素,硼元素外层有3个电子,硅元素外层有4个电子 磷元素外层有5个电子
P 元素与 SI 组合,外层是9个电子,共价键8个电子稳定,所以就有一个电子变成了自由电子。电子带负电,容易流向 空穴处。这样往硅里面掺入磷元素,就可以让这个区域变成了N区。
B元素与 SI 组合 ,外层是7个电子,根据共价键8个电子稳定,就像留了一个电子位置,形成了一个空穴,可以吸引电子移动过来,这个区域就变成了P区。
然后再将 P区和N区组合在一起,有两种情况,一种是 大面积的范围区(衬底)用P材料,两边电极区用N材料,这个就是NMOS管,一种是 大面积区域(衬底)用N材料,两边的电极区域用P材料,这个就是PMOS管。
然后再在中间搞一层绝缘层(SiO2),绝缘层上搞一层金属铝做栅极,(后面用多晶硅等材料)。下图种的N+ 不是说N区带正电,是说N区参杂电子浓度大。
MOS管命名的来历看下图
有的MOS管P衬底和源极(S)连接在一起的
2:MOS管体二极管和寄生电容
因为衬底和S极短接,所以C1被短路,就不存在电容,这样G极性到S极的电容就等于C6并C4 再穿C3,
拿NMOS管来说,衬底是P区 两个极性区域是N区,这样就形成了两个PN结,类似两个二极管,如下图
因为衬底与S 极 短接 所以 其中一个二极管就被短接了,就剩下一个二极管,如下图
3:NMOS和PMOS的区分,增强型与耗尽型的区分,及符号的含义
NMOS管和PMOS管 就是看两个极(源极和漏极) 接的是N区 还是 P区。
沟道
NMOS管 源极和漏极 接的是N区域,中间隔了一个P区,如果从S极性接正电,D极接负电,通过体二极管,是有电流的。如果D极接正电,S极接负电,二极管反向了,所以没有电流,如果要让他们导通的话 就需要在D 和S 之间接一个桥梁,D 和S 都是 N区 要他们导通的话 中间的桥梁也是要变成N区。这个桥梁就是沟道,NMOS管 要导通 就是要一个N沟道。PMOS管同样的原理,叫P沟道。
增强型和耗尽型的区分
耗尽型就是 不需要外接的干预 沟道就存在,要让这个沟道消失的话,需要外接的干预才可以。他就像一个常闭开关。
增强型就是 没有外接的干预 沟道就不存在,需要有外接的干预才能形成这个沟道
MOS管符号上的每根线代表的含义
PMOS管 两个极(S 和 D)是P区 中间的沟道就是P区,衬底是N区,所以中间的箭头代表 P指向N,所以箭头朝右。NMOS刚好相反,中间的沟道是N区,衬底是P区,箭头由P指向N,所以是从右指向左。
虚线代表 沟道需要外接干预才会形成,所以代表增强型,如果这里是实线就代表没有外接干预就是有沟道,代表耗尽型。
体二极管的方向 就是根据 D区到衬底组成的二极管来定的。
4:MOS管工作原理(增强型)
MOS管工作的时候就是通过控制栅极(G),来让 漏极(D)和源极(S)之间导通和关断。
NMOS管正极接在珊极上 负极接在源极上,这个电压即为VGS,当VGS>0时,衬底的电子就开始往绝缘层流动(衬底与源极短接)。VGS越大,源极和漏极之间聚集的电子(负电荷)就越多,N沟道就开始形成。此时在源极和漏极之间接上电压(漏极接正极,源极接负极),就有了电流通过。
PMOS管要导通 就需要在沟道上形成正电荷,所以栅极就要接负极,这样就把电子往衬底排斥,留下空穴(正电荷)。
电路种的电流都是电子的流动形成的,电子是从电源的负极流向正极,NMOS电子的流动就是从源极流向漏极。PMOS的电子流动时从漏极流向源极。不管时N沟道 还是P沟道 ,都是给电子开辟的道路。
预夹断
VGS 按照导通条件 让NMOS 或PMOS导通以后,源极和漏极之间的电压加大,他们之间的电流就会越大,但是大到一定程度后 就不会再增加了。保持一个恒定的电流。如果想让这个电流变得更大,就需要改变VGS,曲线如下
这个就是预夹断,原由是:衬底与漏极之间得体二极管得PN结得耗尽层变大,让沟道变窄。
不管是NMOS 还是PMOS,这个体二极管都是反向接得。随着源极和漏极得电压增大,这个体二极管内部得耗尽层变大,从而给电子得通过造成阻碍。
夹断了 还有电流通过原因是,这个夹断区很薄,电子还是能通过这个空间电荷去 被漏极搜集。
5:MOS管得上/下拉电阻和串接电阻
串接电阻的作用:1:限流,栅极上电的时候,因为寄生电容的存在,如果没有串接电阻,电流会比较大。2:从芯片控制脚到栅极之间的走线会产生一个电感,再加上寄生电容,就容易产生振荡,加上这个电阻可以让振荡信号变弱。这个电阻一般用几十欧,太大了造成开关速度变低。
上/下拉电阻(NMOS用下拉,PMOS用上拉)的作用:1:对寄生电容放电。2:防止静电击穿。3:消除干扰信号,这个电阻一般用10K.