薄胶(S18xx,SPR955,BCI-3511,NRD6015)光刻胶

光刻胶在平板显示、PCB和半导体集成电路行业中扮演关键角色。它用于图形转移,影响集成电路的性能、成品率和可靠性。干膜和湿膜光刻胶各有优缺点,彩色光刻胶在液晶屏显中至关重要,而光刻工艺占芯片制造时间和成本的较大比例。

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薄胶(S18xx,SPR955,BCI-3511,NRD6015)光刻胶

薄胶 型号 光源 类型 分辨率 厚度(um) 适用范围
S18xx系列 g-Line 正性 0.5um 0.4-3.5 较常用的薄光刻胶,分辨率高,稳定可靠。
SPR955系列 i-Line 正性 0.35um 0.7-1.6 进口高分辨率(0.35um)光刻胶,稳定可靠。
BCI-3511 i-Line 正性 0.35um 0.5-2 国产0.35um光刻胶,已经在量产单位规模使用。
NRD6015 248nm 负性 0.2um 0.7-1.3 国产深紫外光刻胶,已经在量产单位规模使用。

光刻胶分类

在平板显示行业;主要使用的光刻胶有彩色及黑色光刻胶、LCD触摸屏用光刻胶、TFT-LCD正性光刻胶等。在光刻和蚀刻生产环节中,光刻胶涂覆于晶体薄膜表面,经曝光、显影和蚀刻等工序将光罩(掩膜版)上的图形转移到薄膜上,形成与掩膜版对应的几何图形。

光刻胶胶涂工艺

在PCB行业

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