Unity3D - Shader - 遮罩纹理(mask texture)

遮罩纹理(mask texture),允许保护某些区域,免于某些修改。

使用遮罩的流程:通过采样得到遮罩纹理的纹素值,然后使用其中某个通道的值来与某个表面属性进行相乘,这样当通道的值为0时,可以保护表面不受该属性的影响。总而言之,使用遮罩可以让美术人员更加精确地(像素级)的控制模型表面的各个性质。

// Upgrade NOTE: replaced 'mul(UNITY_MATRIX_MVP,*)' with 'UnityObjectToClipPos(*)'

Shader "Unity Shaders Book/Chapter 7/Mask Texture" {
    Properties {
        _Color("Color Tint", Color) = (1,1,1,1)

        // 主纹理
        _MainTex("Main Tex", 2D) = "white" {}

        // 凹凸映射纹理
        _BumpMap("Normal Map", 2D) = "bump" {}
        _BumpScale("Bump Scale",Float) = 1.0

        // 高光反射遮罩纹理
        _SpecularMask("Specular Mask", 2D) = "white" {}
        // 用于控制遮罩影响度的系数
        _SpecularScale("Specular Scale", Float) = 1.0

        _Specular("Specular", Color) = (1,1,1,1)
        _Gloss("Gloss", Range(8.0, 256)) = 20
    }
    SubShader {
        Pass {
            Tags {"LightMode"="ForwardBase"}

            CGPROGRAM

            #pragma vertex vert
            #pragma fragment frag

            #include "Lighting.cginc"

            fixed4 _Color;

            // 主纹理
            sampler2D _MainTex;

            // MainTex/BumpMap/SpecularMask共同使用的纹理属性
            // 若修改了主纹理的平铺系数和偏移系数会同时影响3个纹理的采样。
            float4 _MainTex_ST;

            // 法线纹理
            sampler2D _BumpMap;
            float _BumpScale;

            // 遮罩纹理
            sampler2D _SpecularMask;
            float _SpecularScale;

            fixed4 _Specular;
            float _Gloss;

            struct a2v {
                float4 vertex : POSITION;
                float3 normal : NORMAL;
                float4 tangent : TANGENT;
                float4 texcoord : TEXCOORD0;
            };

            struct v2f {
                float4 pos : SV_POSITION;
                float2 uv : TEXCOORD0;
                float3 lightDir : TEXCOORD1;
                float3 viewDir : TEXCOORD2;
            };

            v2f vert(a2v v) {

                v2f o;
                o.pos = UnityObjectToClipPos(v.vertex);

                o.uv.xy = v.texcoord.xy * _MainTex_ST.xy + _MainTex_ST.zw;

                TANGENT_SPACE_ROTATION;

                o.lightDir = mul(rotation, ObjSpaceLightDir(v.vertex)).xyz;

                o.viewDir = mul(rotation, ObjSpaceViewDir(v.vertex)).xyz;

                return o;
            }

            fixed4 frag(v2f i) : SV_Target {

                fixed3 tangentLightDir = normalize(i.lightDir);
                fixed3 tangentViewDir = normalize(i.viewDir);

                fixed3 tangentNormal = UnpackNormal(tex2D(_BumpMap, i.uv));
                tangentNormal.xy *= _BumpScale;
                tangentNormal.z = sqrt(1.0 - saturate(dot(tangentNormal.xy, tangentNormal.xy)));

                fixed3 albedo = tex2D(_MainTex, i.uv).rgb * _Color.rgb;

                fixed3 ambient = UNITY_LIGHTMODEL_AMBIENT.xyz * albedo;

                fixed3 diffuse = _LightColor0.rbg * albedo * max(0, dot(tangentNormal, tangentLightDir));

                fixed3 halfDir = normalize(tangentLightDir + tangentViewDir);

                // Get the mask value
                // 对遮罩纹理__SpecularMask进行采样,然后使用r分量作为掩码值和__SpecularScale相乘
                // 用于控制高光反射的强度
                fixed3 specularMask = tex2D(_SpecularMask, i.uv).r * _SpecularScale;

                // Compute specular term with the specular mask
                fixed3 specular = _LightColor0.rgb * _Specular.rgb * pow(max(0, dot(tangentNormal, halfDir)), _Gloss) * specularMask;

                return fixed4(ambient + diffuse + specular, 1.0);

            }

            ENDCG       
        }
    }
    FallBack "Specular"
}

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