【图形学】计算机图形学知识点提纲11

本文介绍了局部光照明与全局光照明的概念,对比了它们的绘制效果。详细阐述了光线跟踪算法的基本思想,包括从光源和视点出发的光线追踪过程,并解释了如何使用该算法绘制物体阴影。同时,提到了辐射度算法的目标,即通过递归跟踪漫反射光线来计算场景中的光照分布。
摘要由CSDN通过智能技术生成

1.什么是局部光照明?什么是全局光照明?两者绘制效果有什么差异?

1.1 局部光照明

在这里插入图片描述

1.2 全局光照明:直接光照+间接光照

  • 直接光照:Phong模型,Cook–Torrance模型等
  • 间接光照计算:
    • 光线跟踪算法
    • 辐射度算法

1.3 差异

在这里插入图片描述

2.光线跟踪算法的基本思想,要能描述算法的基本过程

2.1 基本思想:

  • 跟踪从光源发出的每一条光线:
    • 不透明物体只计算反射光
    • 透明物体还需计算透射光
    • 记录经过上述多次反射后,最终到达眼睛的光线
  • 在光线与物体交点处:
    • 如果受到光源直接照射,计算直接光照
    • 递归跟踪反射/投射光线,以计算间接光照
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