OpenGL ES 面试高频知识点(二)

本文介绍了OpenGL ES面试中常见的纹理采样方式,包括GL_NEAREST和GL_LINEAR,并讨论了EGL的作用,以及纹理的环绕方式。针对锯齿问题,提出了高斯模糊和多重采样抗锯齿的优化方法。
摘要由CSDN通过智能技术生成

说说纹理常用的采样方式?

最邻近点采样(GL_NEAREST)和双线性采样(GL_LINEAR)。

GL_NEAREST 采样是 OpenGL 默认的纹理采样方式,OpenGL 会选择中心点最接近纹理坐标的那个像素,纹理放大的时候会有锯齿感或者颗粒感。

**GL_LINEAR 采样会基于纹理坐标附近的纹理像素,计算出一个插值,近似出这些纹理像素之间的颜色。**一个纹理像素的中心距离纹理坐标越近,那么这个纹理像素的颜色对最终的样本颜色的贡献越大。因为与周围的像素做加权平均了,纹理放大的时候会变模糊。

当进行放大(Magnify)和缩小(Minify)操作的时候可以设置纹理过滤的选项,比如你可以在纹理被缩小的时候使用邻近过滤,被放大时使用线性过滤。

我们需要使用glTexParameter*函数为放大和缩小指定过滤方式。这段代码看起来会和纹理环绕方式的设置很相似:

glTexParameteri(GL_TEXTURE_2D, GL_TEXTURE_MIN_FILTER, GL_NEAREST);
glTexParameteri(GL_TEXTURE_2D, GL_TEXTURE_MAG_FILTER, GL_LINEAR);

什么是 EGL ?

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