电子科技大学《半导体光电子学》考点——半导体物理基础

本文详细介绍了半导体晶体的基本概念,如晶胞结构、晶格参数、带隙性质,以及化合物半导体中III-V族元素的应用。着重讨论了声子和光子的吸收,有效质量近似,以及费米-狄拉克和麦克斯韦-玻尔兹曼分布在电子统计学中的作用。此外,文章还涵盖了掺杂材料中的载流子浓度模型,包括掺杂能级和掺杂效应的数学表达式。

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1.1 晶体

半导体晶体

(1)定义

一种基于特定单胞规则重复的结构,可填充所有空间。

(2)晶胞

通过规则重复来构造晶体的单位。

(3)晶格参数

单位晶胞的重复长度

(4)GaAs的晶格常数

image.png

(5)Si与GaAs的带隙结构

  • Si:间接带隙结构
  • GaAs:直接带隙结构

1.2 化合物半导体

化合物半导体材料III-V族元素

(1)III族

Al、Ga、In

(2)V族

N、P、As、Sb

(3)IV族(用于光电探测器)

Si、Ge

声子(phonon)

由于动量守恒,在E-k图上垂直跃迁间接带隙需要额外的动量,通常来自晶格振动产生的声子,因此间接跃迁是三粒子过程。

光子的吸收与辐射

image.png

有效质量近似(重点)

(1)动量与动能公式

  • 动量: p = ℏ k p=\hbar k p=k
  • 动能: E = p 2 2 m 0 = ℏ 2 k 2 2 m 0 E=\frac{p^{2}}{2 m_{0}}=\frac{\hbar^{2} k^{2}}{2 m_{0}} E=2m0p2=2m02k2

(2)有效质量下的动能

E = ℏ 2 k 2 2 m ∗ E=\frac{\hbar^{2} k^{2}}{2 m^{*}} E=2m2k2

(3)有效质量倒数

1 m ∗ = 1 ℏ 2 [ d 2 E d k 2 ] \frac{1}{m^{*}}=\frac{1}{\hbar^{2}}\left[\frac{d^{2} E}{d k^{2}}\right] m1=21[dk2d2E]

直接带隙半导体的截止波长

λ g (  microns  ) = h c e 1 E g ( e V ) ≅ 1.24 E g ( e V ) \lambda_{g(\text { microns })}=\frac{h c}{e} \frac{1}{E_{g(e V)}} \cong \frac{1.24}{E_{g(e V)}} λg( microns )=ehcEg(eV)1Eg(eV)1.24

态密度(DOS)

(1)能量态密度

单位晶体体积中单位能量中的态数

(2)方晶体边长

L x = N x a L y = N y a L z = N z a L_x=N_xa\\L_y=N_ya\\L_z=N_za Lx=NxaLy=NyaLz=Nza

(3)晶体体积

V = L x L y L z V=L_xL_yL_z V=LxLyLz

(4)空间周期性

ψ k ( x + L x , y , z ) = ψ k ( x , y + L y , z ) = ψ k ( x , y , z + L z ) = ψ k ( x , y , z ) \psi_{k}\left(x+L_{x}, y, z\right)=\psi_{k}\left(x, y+L_{y}, z\right)=\psi_{k}\left(x, y, z+L_{z}\right)=\psi_{k}(x, y, z) ψk(x+Lx,y,z)=ψk(x,y+Ly,z)=ψk(x,y,z+Lz)=ψk(x,y,z)
或表示为:
exp ⁡ ( i k x ( x + L x ) ) = exp ⁡ ( i k x x ) \exp \left(i k_{x}\left(x+L_{x}\right)\right)=\exp \left(i k_{x} x\right) exp(ikx(x+Lx))=exp(ikxx)

(5)边界条件

exp ⁡ ( i k x L x ) = 1 \exp \left(i k_{x} L_{x}\right)=1 exp(ikxLx)=1

(6)量子化结论

k x = 0 , ± 2 π L x , ± 4 π L x , ± 6 π L x , … … ± N x π L x k_{x}=0, \pm \frac{2 \pi}{L_{x}}, \pm \frac{4 \pi}{L_{x}}, \pm \frac{6 \pi}{L_{x}}, \ldots \ldots \pm \frac{N_{x} \pi}{L_{x}} kx=0,±Lx2π,±Lx4π,±Lx6π,……±LxNxπ

k空间允许态

image.png
点表示允许存在的态,厚度为dk的环用于计算态密度。

态密度结论

(1)波矢与能量的微分关系

d k d E = 1 2 2 m ∗ ℏ 2 1 E \frac{d k}{d E}=\frac{1}{2} \sqrt{\frac{2 m^{*}}{\hbar^{2}}} \frac{1}{\sqrt{E}} dEdk=2122m E 1

(2)态密度形式的方程及1/2次幂结论

g ( E ) d E = g ( k ) d 3 k = 2 ( 2 π ) 3 4 π k 2 d k g(E) d E=g(\mathbf{k}) d^{3} \mathbf{k}=\frac{2}{(2 \pi)^{3}} 4 \pi k^{2} d k g(E)dE=g(k)d3k=(2π)324πk2dk
g ( E ) d E = 1 2 π 2 ( 2 m ∗ ℏ 2 ) 3 / 2 E 1 / 2 g(E) d E=\frac{1}{2 \pi^{2}}\left(\frac{2 m^{*}}{\hbar^{2}}\right)^{3 / 2} E^{1 / 2} g(E)dE=2π21(22m)3/2E1/2
image.png

不同自由度下的态密度函数 g ( E ) g(E) g(E)

image.png

半导体统计学电子分布

(1)Fermi-Dirac分布函数(靠近费米能级)

f e ( E , T ) = 1 1 + exp ⁡ ( E − E F k B T ) f_{e}(E, T)=\frac{1}{1+\exp \left(\frac{E-E_F}{k_{B} T}\right)} fe(E,T)=1+exp(kBTEEF)1

(2)Maxwell-Boltzman分布(远离费米能级)

f M − B ( E , T ) = A exp ⁡ ( − E k B T ) f_{M-B}(E, T)=A \exp \left(\frac{-E}{k_{B} T}\right) fMB(E,T)=Aexp(kBTE)

其中, A = exp ⁡ ( E F k B T ) A=\exp \left(\frac{E_F}{k_{B} T}\right) A=exp(kBTEF)

(3)单位能量间隔的电子数量

n ( E ) = f ( E , T ) g ( E ) n(E)=f(E, T) g(E) n(E)=f(E,T)g(E)

(4)系统总电子数

N = ∫ f ( E , T ) g ( E ) d E N=\int f(E, T) g(E) d E N=f(E,T)g(E)dE

(5)费米能级

E F = ℏ 2 2 m ∗ ( 3 π 2 N ) 2 / 3 E_{F}=\frac{\hbar^{2}}{2 m^{*}}\left(3 \pi^{2} N\right)^{2 / 3} EF=2m2(3π2N)2/3

费米积分

F ( x ) = ∫ 0 ∞ y 1 / 2 1 + exp ⁡ ( y − x ) d y F(x)=\int_{0}^{\infty} \frac{\mathrm{y}^{1 / 2}}{1+\exp (\mathrm{y}-\mathrm{x})} d y F(x)=01+exp(yx)y1/2dy

能量态简并

指具有给定能量的不止一个量子态。

掺杂材料中的载流子浓度

电子浓度

n e = n c exp ⁡ [ − ( ε c − μ ) / τ ] n_{e}=n_{c} \exp \left[-\left(\varepsilon_{c}-\mu\right) / \tau\right] ne=ncexp[(εcμ)/τ]

空穴浓度

n h = n v exp ⁡ [ − ( μ − ε v ) / τ ] n_{h}=n_{v} \exp \left[-\left(\mu-\varepsilon_{v}\right) / \tau\right] nh=nvexp[(μεv)/τ]

电离施主浓度

n d + = n d 1 + 2 exp ⁡ ( μ − ε d ) / τ n_{d}^{+}=\frac{n_{d}}{1+2 \exp \left(\mu-\varepsilon_{d}\right) / \tau} nd+=1+2exp(μεd)/τnd

电离受主浓度

n a − = n a 1 + 2 exp ⁡ ( ε a − μ ) / τ n_{a}^{-}=\frac{n_{a}}{1+2 \exp \left(\varepsilon_{a}-\mu\right) / \tau} na=1+2exp(εaμ)/τna

电中性方程

n − = n e − + n a − = n + = n h + + n d + n^{-}=n_{e}^{-}+n_{a}^{-}=n^{+}=n_{h}^{+}+n_{d}^{+} n=ne+na=n+=nh++nd+

掺杂能级

ε d = ε g − Δ ε d \varepsilon_{d}=\varepsilon_{g}-\Delta \varepsilon_{d} εd=εgΔεd

重掺杂方程组

N d + = N d ( 1 − f D ( E ) ) = N d 1 + e ( E f − E d ) / k T n = N d + + p = N d + + n i 2 n n = N c e − ( E c − E f ) / k T \begin{array}{l} N_{d}^{+}=N_{d}\left(1-f_{D}(E)\right)=\frac{N_{d}}{1+e^{\left(E_{f}-E_{d}\right) / k T}} \\ n=N_{d}^{+}+p=N_{d}^{+}+\frac{n_{i}^{2}}{n} \\ n=N_{c} e^{-\left(E_{c}-E_{f}\right) / k T} \end{array} Nd+=Nd(1fD(E))=1+e(EfEd)/kTNdn=Nd++p=Nd++nni2n=Nce(EcEf)/kT

掺杂剂

  • n型掺杂剂:引入更多的电子
  • p型掺杂剂:引入更多的空穴

少数载流子浓度: n e ( h ) = n i 2 / n h ( e ) n_{e(h)}=n_{i}^{2} / n_{h(e)} ne(h)=ni2/nh(e)

准费米能级(了解)

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