硬件学习笔记--015 MOS管基础知识介绍

1.MOS管的组成结构

        MOS管是由金属(Metal)、氧化物(Oxide)和半导体(Semiconductor)三部分组成的。其中,金属部分被用作栅极(Gate)、氧化物部分被用作绝缘层(Gate Oxide),半导体部分则被用作沟道(Channel)和源漏极(Source/Drain)。

2.MOS管的种类

MOS管分为NMOS及PMOS两种。

3.MOS管的主要参数

3.1 电压极限参数

1)漏源击穿电压V(BR)DSS:漏源击穿电压V(BR)DSS一般是在结温Tj=25℃下,VGS=0V,ID为数百A下的测试值,由于V(BR)DSS和Rds(on)成反比,因此多数厂家MOSFET的上限为1000V。V

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