12寸晶圆光刻板制作的一些小知识

一、12寸晶圆光刻板制作的工艺流程

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主要包括以下几个步骤：

1. |清洁及表面处理|：首先对晶圆进行清洁和表面预处理，以去除吸附在硅片表面的污染物和上一道工序的残留物。

2. |旋转涂胶|：在晶圆上均匀涂抹一层对光敏感的物质——光刻胶（Photo Resist, PR）。这个过程需要控制转速和排风大小，以确保光刻胶层均匀且无气泡。

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