1.模型需勾选Generate Lightmap UVs,否则烘培图像撕裂。
2.关于为何新版的改叫Mixed Lighting,猜测是之前属于全部烘培,现在算是部分烘培,实时阴影和烘培阴影可以混用,等等,Unity的未来方向。
3.关于shadow mask。旧版本(5.4或者之前),烘培出的贴图是没有shadow mask的,而且烘培阴影和实时阴影没法很好的融合,两种区分很明显。
其次是光照探头LightProbe也没办法把阴影暗部信息储存进去。现在的话实时阴影和烘培阴影可以很好的融合在一起,并且光照探头也会保存阴影信息
动态模型进入暗处后也会随之变暗。
而Distance Shadow mask则是近看是动态阴影,远看变成烘培阴影,但会带来更多的开销。
4.烘培光照参数设置:
1).Indirect Resolution 间接光照分辨率,设置低了烘培速度更快,反之越慢。不会影响最终贴图大小。
2).Lightmap Resolution 光照贴图分辨率,低了影响品质。会影响最终贴图大小,正比关系。
3).Lightmap Size 贴图尺寸,分辨率越高最终贴图大小也会增加,正比关系,但偶尔也有例外(场景比较小的情况下)。
4).Directional Mode 以前好像有一个Directional Specular,由于现在往混合光照方向发展,去掉了这个。这个设置成非方向性(Non-Directional)的可以优化最终贴图大小。
5).Mesh Renderer里的优化uv设置,角度和距离改了感觉对优化没什么用,可能影响显示效果。
暂时写这些,如果未来BakeGI接触的多了可能会写一篇详细的。