细说光刻技术

最新推荐文章于 2024-05-02 08:00:00 发布
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版权

关于光刻的书籍
书名:《IC Fabrication Technology》By BOSE
IT制造技术
细说一下光刻.
小于头发丝直径的操作会很困难,
所以光刻(比如说100nm)是怎么做的呢?
比如说我们要做一个100nm的门电路(90nm technology),
那么实际上是这样的:

这里写图片描述

这层掩膜是第一层,
大概10倍左右的Die Size(核心尺寸)有两种方法制作:
Emulsion Mask (乳胶掩膜)和 Metal MaskEmulsion Mask

★ Emulsion Mask

Emulsion Mask

这货分辨率可以达到 2000line / mm
其实挺差劲的…
所以sub-micron(次微米) ,
也即um(微米)

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海绵娃娃
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芯片制造的关键——光刻技术
DFWee的博客
03-16 7267
光刻是集成电路最重要的加工工艺，他的作用，如同金工车间中车床的作用。在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻的技术。光刻也是制造芯片的最关键技术，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技与社会发展中，光刻技术的增长，直接关系到大型计算机的运作等高科技领域。 光刻技术与我们的生活息息相关，我们用的手机，电脑等各种各样的电子产品，里面的芯片制作离不开光科技束。如今的世界是一个信息社会，各种各样的信息流在世界流动。而光刻技术是保证制造承载信息的载体。在社会上拥有不可替代的作用。 光
光刻技术简介
Justliketherain的博客
08-08 1575
简单介绍光刻技术的原理和发展
光刻技术详细介绍
m0_52555753的博客
10-08 3267
为什么俄罗斯的进展非常不顺利呢？因为俄罗斯的芯片技术，信息技术被锁死，最好的芯片加工能力大概是65nm，在这个前提下，西方就动用一切先进的侦察手段，使得战场对乌克兰透明，由此可以看出技术的发展是衡量一个国家的实力的重要标志华为地反制裁的措施？麒麟芯片作为世界上最好的芯片之一，生产不出来，华为投资一家芯片企业在深圳，初步实现28nm,这可以说是华为存活的必由之路，如果三两年之内可以实现芯片量产，那么等他库存的芯片耗完以后，就很难生存下来。
光刻机技术
yaomengzao的博客
04-16 3710
人类科技发展的顶级水平是航空发动机和光刻机。 光刻机被誉为现在光学“工业之花”，是制造半导体芯片必不可少的超高精密设备。现在世界上能制造高端光刻机的企业只有三家，日本的佳能和尼康以及荷兰的ASML，ASML技术最为先进占据高端市场份额的80%，前段时间ASML总裁公开说把7nm光刻机卖给中芯国际，是因为制造光刻机是一项系统工程不怕中国复制。而我们真的像他说的那样无法制造自己的光刻机吗？ 首先A...
芯片破壁者（三）：光刻技术的“鬼斧”之变
脑极体
07-12 1398
在我们今天看来，晶体管发明以后，集成电路的出现一直到今天超大规模集成电路的出现，似乎是一件水到渠成的事情。但是如果回到半导体产业初兴的历史现场，我们就会发现没有任何一项关键技术的突破是“...
Intel放弃157nm光刻技术
12-09
标题中的“Intel放弃157nm光刻技术”是指英特尔公司在2006年5月23日做出的重大决定，该公司宣布将不再继续研发157纳米光刻技术，这是一项用于制造更小、更快的微处理器的关键技术。这一决定对半导体设备制造业和相关...
下一代光刻技术突破传统的光刻技术障碍
08-16
目前芯片制造商普遍使用深紫外线光刻技术，而且已有很多芯片制造商转向0．131xm的芯片制造工艺，但这种深度紫外线蚀刻工艺在理论上仅能使印刷电路的最小尺寸为0．11xm，当印刷电路的最小线宽达到0．1 1xm时，摩尔...
光刻技术概况
12-09
光刻技术是集成电路的关键技术之一 在整个产品制造中是重要的经济影响因子，光刻成本占据了整个制造成本的35％ 光刻也是决定了集成电路按照摩尔定律发展的一个重要原因，如果没有光刻技术的 进步，集成电路就不可能...
光刻技术的进程
02-03
然而这一切变化的关键是光刻技术，所以人们统称光刻技术是半导体工业的“领头羊”。2003年ITRS修订的最新版本如表1所示。随着集成电路产品技术需求的提升，光刻技术也不断地提高分辨率，以制作更微细的器件尺寸。...
反向光刻系统
05-18
光刻机系统的构建，以部分相干光和分层光刻胶模型为基础，进行掩膜的最优化研究。
3D IC device Technologies and Manufacturing
05-17
3D IC device Technologies and Manufacturing 清晰的PDF档.
紫外光刻机说明书
01-10
紫外光刻机使用及维护指南。感谢您购买本所设备，使用前请仔细阅读本说明书！
光刻技术工艺及应用
08-26
单的说用一定波长的波刻蚀材料就是光刻技术,集成电路制造中利用光学- 化学反应原理和化学、物理刻蚀方法
半导体的光刻工艺全过程，技术讲解
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TroubleMaker
12-04 4万+
来源：旺财芯片  光刻工艺是半导体制造中最为重要的工艺步骤之一。主要作用是将掩膜板上的图形复制到硅片上，为下一步进行刻蚀或者离子注入工序做好准备。光刻的成本约为整个硅片制造工艺的1/3，耗费时间约占整个硅片工艺的40～60%。   光刻机是生产线上最贵的机台，5～15百万美元/台。主要是贵在成像系统（由15～20个直 径为200～300mm的透镜组成）和定位系统（定位精度小于10nm）。其...
光刻机技术解析
吴建明wujianming_110117
06-05 3688
光刻机技术解析 利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用。这就是光刻的作用，类似照相机照相。照相机拍摄的照片是印在底片上，而光刻刻的不是照片，而是电路图和其他电子元件。 简单点来说，光刻机就是放大的单反，光刻机就是将光罩上的设计好集成电路图形通过光线的曝光印到光感材料上，形成图形。 上图是一张ASML光刻机介绍图。下面，简单介绍一下图中各设备的作用。 测量台、曝光台：是承载硅片的工作台。 激
光刻机：探索背后的精密技术
最新发布
极客代码
05-02 2943
光刻机作为集成电路制造的核心设备，其技术水平直接决定了芯片的性能和制造效率。从接触式到近接式，再到投影式光刻技术，光刻机的发展见证了人类对精密制造技术的不断探索和突破。随着半导体产业的快速发展，光刻技术将继续面临新的挑战和机遇。在下一部分中，我们将深入探讨光刻机中的光学系统和光源技术，以及它们如何影响光刻质量和效率。光刻机中的光学系统和光源技术是实现高分辨率光刻的关键。投影系统、焦深、光学畸变校正等技术的发展，为光刻机提供了更高的成像质量和生产效率。
光刻技术_Y1D25—半导体光刻技术概述
weixin_39842617的博客
01-14 5548
​引言前两天说了一下DUV与E-beam的区别(Y1D24—硅光工艺DUV与E-beam)，但重点还是在解释E-beam为什么能比DUV做的更精细。回头继续看文献，发现DUV也分很多种，同样是DUV做出来的工艺差距也是特别大，尤其是193nm ArF光刻工艺，通过不同技术改进，可以实现从180nm~22nm等不同节点工艺。原谅我这个半导体小白（too young too naive），对光刻机不了...
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