半导体MPW、PCM、WAT、单元库设计

集成电路设计涉及从构思到实现的复杂过程,包括层次化和结构化设计,以及流片测试。硅片制造从硅晶体提炼,切割和抛光。常用硅单晶圆片直径有多种规格。流片是验证设计的步骤,而多项目晶圆(MPW)降低了实验成本。晶圆代工提供制造服务,减少设计公司的投资风险。芯片封装保护内部电路并提供外部连接,PCM/WAT用于工艺质量验证。门阵列和单元库设计技术优化了VLSI设计,全定制和半定制IC设计各有优缺点。

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1.什么是集成电路设计?

集成电路设计简单的说就是设计硬件电路。设计集成电路时,设计者首先根据对电路性能和功能的要求提出设计构思。然后将这样一个构思逐步细化,利用电子设计自动化软件实现具有这些性能和功能的集成电路。设计者将按照我们的要求构思,在计算机上利用软件完成设计版图并模拟测试。

集成电路设计一般可分为层次化设计和结构化设计。层次化设计就是把复杂的系统简化,分为一层一层的,这样有利于发现并纠正错误;结构化设计则是把复杂的系统分为可操作的几个部分,允许一个设计者只设计其中一部分或更多,这样其他设计者就可以利用他已经设计好的部分,达到资源共享。

2.简述硅片是怎样制造的?

硅片是从大块的硅晶体上切割下来的,而这些大块的硅晶体是由普通硅沙拉制提炼而成的。制造硅片,先多晶硅熔化,拉制出大块的硅晶体。然后将头部和尾部切掉,再用机械对其进行修整至合适直径。这时看到的就是有合适直径和一定长度的“硅棒”。再把“硅棒”切成一片一片薄薄的圆片,圆片每一处的厚度必须是近似相等的,这是硅片制造中比较关键的工作。最后再通过腐蚀去除切割时残留的损伤。然后经过抛光就制成了硅片。

3. 常用的硅单晶圆片直径是多大?

从材料上看,硅单晶圆片的主要材料是硅,而且是单晶硅;从形状上看,它是圆形片状的。硅单晶圆片是最常用的半导体材料,它是硅到芯片制造过程中的一个状态,是为了芯片生产而制造出来的集成电路原材料。它是在超净化间里通过各种工艺流程制造出来的圆形薄片,这样的薄片必须两面近似平行且足够平整。硅单晶圆片越大,同一圆片上生产的集成电路就越多,这样既可降低成本,又能提高成品率,但材料技术和生产技术要求会更高。

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