详细分析MOS管缓启动电路及其原理详解

本文深入探讨MOS管在电信和微波电路中的缓启动应用,利用其低导通阻抗和简单驱动特性。通过分析MOSFET的开通过程,包括米勒平台阶段,解释了电流如何逐渐增加。电路设计中,外接电容C2用于延长米勒平台时间,控制冲击电流。此外,文章提供了选择和设计MOS管缓启动电路的指导,包括关键参数如漏极击穿电压、栅源电压和导通电阻。

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在电信工业和微波电路设计领域,普遍使用MOS管控制冲击电流的方达到电流缓启动的目的。MOS管有导通阻抗Rds_on低和驱动简单的特点,在周围加上少量元器件就可以构成缓慢启动电路。虽然电路比较简单,但只有吃透MOS管的相关开关特性后才能对这个电路有深入的理解。
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本文首先从MOSFET的开通过程进行叙述:
尽管MOSFET在开关电源、电机控制等一些电子系统中得到广泛的应用,但是许多电子工程师并没有十分清楚的理解MOSFET开关过程,以及MOSFET在开关过程中所处的状态。一般来说,电子工程师通常基于栅极电荷理解MOSFET的开通的过程,如图1所示。此图在MOSFET数据表中可以查到。
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MOSFET的D和S极加电压为VDD,当驱动开通脉冲加到MOSFET的G和S极时,输入电容Ciss充电,G和S极电压Vgs线性上升并到达门槛电压VGS(th),Vgs上升到VGS(th)之前漏极电流ld≈0A,没有漏极电流流过,Vds的电压保持VDD不变。

当Vgs到达VGS(th)时,漏极开始流过电流ld,然后Vgs继续上升,Id也逐渐上升,Vds仍然保持VDD。当Vgs到达米勒平台电压VGS(pl)时,ld也上升到负载电流最大值ID,Vds的电压开始从VDD下降米勒平台期间,Id电流维持ID,Vds电压不断降低。
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米勒平台结束时刻,Id电流仍然维持ID,Vds电压降低到一个较低的值。米勒平台结束后,Id电流仍然维持ID,Vds电压继续降低,但此时降低的斜率很小,因此降低的幅度也很小,最后稳定在Vd

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