【荐读 IEEE TPAMI】ConvMatch:重新思考两视图对应学习网络设计

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ConvMatch: Rethinking Network Design for Two-View Correspondence Learning

题目:ConvMatch:重新思考两视图对应学习网络设计

作者:Shihua Zhang; Jiayi Ma
源码:https://github.com/SuhZhang/ConvMatch


摘要

多层感知器(MLP)已成为双视图对应学习的事实骨干,因为它可以单独提取无序对应点的有效深度特征。然而,由于天生缺乏上下文信息,其性能受到限制,尽管在后续研究中附加了许多捕获上下文的模块。在本文中,我们从一个新的角度出发,设计了一个名为ConvMatch的对应学习网络,首次可以利用卷积神经网络(CNN)作为骨干,具有固有的上下文聚合能力。具体来说,我们观察到稀

IEEE TPAMIIEEE Transactions on Pattern Analysis and Machine Intelligence)是一个涵盖模式识别、计算机视觉、图像处理和机器学习等领域的高质量期刊,其中也包括用于缺陷检测的研究。 以下是一些在IEEE TPAMI期刊上发表的用于缺陷检测的论文: 1. "Automatic Defect Detection in X-Ray Images Using Convolutional Neural Networks"(使用卷积神经网络自动检测X射线图像中的缺陷)-- 该论文提出了一种基于卷积神经网络(CNN)的自动缺陷检测方法,该方法可以应用于各种类型的X射线图像中的缺陷检测。 2. "Unsupervised Defect Detection in Textured Materials Using Convolutional Autoencoders"(使用卷积自动编码器在纹理材料中进行无监督缺陷检测)-- 该论文提出了一种基于卷积自动编码器(CAE)的无监督缺陷检测方法,该方法可以有效地检测纹理材料中的缺陷。 3. "A Hierarchical Approach to Defect Detection in Semiconductor Wafer Images"(半导体晶圆图像缺陷检测的分层方法)-- 该论文提出了一种基于分层方法的缺陷检测方法,可以应用于半导体晶圆图像中的缺陷检测。 4. "Deep Learning-Based Defect Detection in Semiconductor Manufacturing"(基于深度学习的半导体制造中的缺陷检测)-- 该论文提出了一种基于深度学习的缺陷检测方法,可以应用于半导体制造中的缺陷检测,并且在实验中取得了良好的结果。 这些论文都展示了IEEE TPAMI作为一个重要的期刊,提供了广泛的研究和应用领域,包括缺陷检测。
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