MOSFET工作区域判定方法

Mos管可以工作在:截止区,变阻区,饱和区(也叫做恒流区),击穿区 四个工作区间

有点类似于BJT的三个工作区域:截止区,线性区,饱和区

那让我们先看一下Mosfet(NMOS)的四个工作区:

 Vgs就好像一个能够调节电流通过的大门

Vds就像一个压力泵

Ids就像水流

工作区电压特性含义
截止区(或者夹断区)当 Vgs < Vth 时这个区间中,沟道完全截止中断,被称为全夹断,Ids=0(Vgs门太小,无论Vds多大都没有用)
变阻区当 Vgs > Vth 且 Vds < Vgs - Vth 时在此区间MOS类似于一个受Vgs控制的可调电阻,Vgs越大则Mos上的Rds越小,反之Rds越大。Vgs一定时Vds-Ids近似线性关系(Vgs门开得很大了,电流完全由Vds压力泵决定)
饱和区(恒流区)Vgs > Vth 且 Vds > Vgs - Vth 时也叫放大区,有源区,当Vgs一定时,Ids几乎不随Vds而变化,呈恒流特性。Ids仅受Vgs控制,这时场效应管D、S间相当于一个受电压Vgs控制的电流源。(Vds已经足够大了,Vgs这个大门开的越大,电流越大)
击穿区Vds很大随着Vds压力的不断增大,PN结击穿短路,电流过大会短路

Vth是指当源极与漏极之间有指定电流时出现的栅极电压(也叫开启电压或者阈值电压)

MOSFET的电气特性(静态特性Vth) | 东芝半导体&存储产品中国官网 (toshiba-semicon-storage.com)

可见BJT的放大区和MOS的恒流区类似,需要注意区分

参考资源链接:[拉扎维《CMOS集成电路设计》答案手写版pdf](https://wenku.csdn.net/doc/1ck9agaft1?utm_source=wenku_answer2doc_content) 模拟集成电路设计是微电子领域的核心技能之一,而MOSFET(金属-氧化物-半导体场效应晶体管)作为IC设计中的基础组件,其工作区域的确定对于电路的性能至关重要。要准确地根据MOSFET的物理模型确定其工作区域,需要深入理解其基本原理和特性曲线,这正是拉扎维在《CMOS集成电路设计》一书中详细讲解的内容。 首先,MOSFET工作区域可以通过其I-V(电流-电压)特性曲线来判断,该曲线可以分为几个区域:截止区、三极管区(可进一步分为线性区和饱和区)、以及击穿区。理解这些区域的边界条件和物理含义是分析MOSFET工作状态的基础。 1. 截止区(Cut-off Region):当栅极电压Vgs小于阈值电压Vth时,MOSFET不导电,处于截止状态。这个区域工作点可以用Vds > Vgs - Vth的关系来判断。 2. 三极管区(Triode Region):当Vgs > Vth且漏源电压Vds小于Vgs - Vth时,晶体管工作在三极管区,此时器件可以被视作一个可变电阻。其I-V关系可以表示为I_D = μnCox(W/L)(Vgs - Vth)Vds - (1/2)Vds^2。 3. 饱和区(Saturation Region):当Vgs > Vth且Vds >= Vgs - Vth时,MOSFET进入饱和区,此时漏极电流主要由Vgs决定,与Vds无关。其I-V关系可以近似为I_D = (1/2)μnCox(W/L)(Vgs - Vth)^2。 4. 击穿区(Breakdown Region):当漏源电压Vds过高时,器件可能进入击穿区,此时电流迅速增加,器件有损坏风险。 为了确定MOSFET工作区域,我们可以绘制其I-V曲线,并找到不同区域的临界点。例如,截止区与三极管区的边界点在Vds = Vgs - Vth,而三极管区与饱和区的边界点在Vds = Vgs - Vth。通过在这些边界条件下计算漏极电流I_D,我们可以判断晶体管的实时工作状态。 特别地,拉扎维在《CMOS集成电路设计》一书中不仅提供了详细的理论分析,还给出了具体的电路设计案例和计算公式。在深入学习MOSFET工作区域时,这些案例和公式可以帮助读者更好地理解理论与实际应用之间的联系,以及如何根据MOSFET的物理模型设计出性能优越的模拟集成电路。 综上所述,通过《CMOS集成电路设计》这本书,结合MOSFET的I-V曲线和相应的物理模型,我们可以准确地确定晶体管在不同工作条件下的工作区域。这对于进行高效且可靠的模拟IC设计至关重要。 参考资源链接:[拉扎维《CMOS集成电路设计》答案手写版pdf](https://wenku.csdn.net/doc/1ck9agaft1?utm_source=wenku_answer2doc_content)
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