晶圆测试软件,半导体晶圆接触角测量仪 Wafer水滴测试

SDC-600半导体晶圆接触角测量仪用于 Wafer水滴测试,涉及静态/动态接触角、表面张力、润湿性评估、清洁度检测等多个方面,适用于科研与生产线的质量控制。该设备采用高精度CCD和专业分析软件,提供一键式操作,满足高效自动化检测需求。
摘要由CSDN通过智能技术生成

SDC-600半导体晶圆接触角测量仪 Wafer水滴测试的详细资料:

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半导体晶圆接触角测量仪 Wafer水滴测试

一·概述(Summary)

接触角(contact angle)是指在气、液、固三相交点处所作的气-液界面的切线,此切线在液体一方的与固-液交界线之间的夹角θ,是润湿程度的量度;接触角现有测试方法通常有两种:其一为外形图像分析方法;其二为称重法.后者通常称为润湿天平或渗透法接触角仪.但目前应用广泛,测值直接与准确的还是外形图像分析方法,接触角测量仪采用外形图像分析(Shape image analysis)方法测量样品表面亲疏水性、润湿性能、表面张力、表面能等数据的设备

半导体晶圆接触角测量仪 Wafer水滴测试应用:

1、液体在固体表面的接触角和润湿性:包括静态接触角,动态接触角(前进/后退接触角),接触角滞后性等;

2、液滴在固体表面的起始滑动角(或滚动角),滑动速度;(扩张功能)

3、液体在固体表面的铺展、渗透/吸收等润湿行为;

4、固体表面自由能(surface free energy),及其各种

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摘要:晶圆测试半导体制造过程中非常关键的一步,其目的是检查芯片是否符合设计要求,同时筛选出不合格芯片。混合缺陷是一种常见的芯片缺陷,其具有形状多样、大小不一的特点,给晶圆测试带来了极大的挑战。本文提出了一种基于可变形卷积的晶圆测试混合缺陷识别算法。首先,通过图像增强和预处理方法对原始图像进行处理,得到更加清晰的缺陷图像。然后,利用可变形卷积网络对缺陷进行特征提取,并结合分类器进行缺陷识别。实验结果表明,该算法能够有效地识别晶圆测试中的混合缺陷,具有较高的准确率和鲁棒性。 关键词:晶圆测试;混合缺陷;可变形卷积;特征提取;分类器 Abstract: Wafer testing is a very critical step in the semiconductor manufacturing process, whose purpose is to check whether the chip meets the design requirements and screen out the disqualified chips. Mixed defects are a common type of chip defect, which have various shapes and sizes, posing significant challenges to wafer testing. This paper proposes a wafer testing mixed defect recognition algorithm based on deformable convolution. Firstly, the original image is processed by image enhancement and preprocessing methods to obtain a clearer defect image. Then, the deformable convolutional neural network is used to extract features of the defect, combined with a classifier for defect recognition. Experimental results show that the proposed algorithm can effectively recognize mixed defects in wafer testing, with high accuracy and robustness. Keywords: wafer testing; mixed defect; deformable convolution; feature extraction; classifier
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