SynopsysSentaurus工艺工具是一个强大的1D、2D和3D工艺模拟软件，适用于硅和非硅器件。它利用现代软件架构和高级模型处理扩散、氧化、蚀刻等工艺步骤。SentaurusProcess支持3D边界文件网格划分，并使用Alagator语言让用户自定义扩散方程。此外，提供全球客户支持和在线资源，如SolvNet网站。
About This Guide（关于本指南）
Synopsys SentaurusTM工艺工具是一种先进的1D、2D和3D工艺模拟器，适用于硅和非硅半导体器件。它采用现代软件架构和最先进的模型来解决当前和未来的工艺流程技术。
Sentaurus Process 模拟所有标准工艺模拟步骤，扩散、分析注入、蒙特卡洛注入、氧化、蚀刻、沉积和硅化。三维功能包括使用MGOALS模块对三维边界文件进行网格划分、力学(应力和应变)、扩散、有限的3D氧化能力，以及Sentaurus Structure Editor接口(这是基于ACIS实体建模库的3D几何编辑工具)。
Sentaurus Process 使用Alagator脚本语言，允许用户求解自己的扩散方恒。Alagator可用于解决任何扩散方程，包括掺杂、缺陷、杂质和氧化扩散方程。三维扩散的模拟处理与一维和二维完全相同。因此，所有在1D和2D中可用的高级模型和用户可编辑性都可以在3D中使用。此外，高级校准还提供一组内置校准参数。
Related Publications（相关出版物）
有关更多信息，请参阅：
- TCAD Sentaurus发行说明，可在Synopsys SolveNet@支持网站上获得(请参见第xxxii页Accessing SolvNet)。
- 文档可在SolvNet网站https://solvnet.synopsys.com/DocsOnWeb上查阅。
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