全球主要光刻机设备供应商汇总

最新推荐文章于 2025-04-30 17:40:53 发布
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分类专栏： 半导体 芯片 晶圆厂 文章标签： 单片机
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本文链接：https://blog.csdn.net/weixin_45614159/article/details/131917232
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本文介绍了全球光刻机市场的主要供应商，包括其在ArF、KrF和i-line光刻机领域的应用，这些设备对半导体制造，如DRAM、逻辑芯片及晶体管生产至关重要。文章特别强调市场竞争的激烈性，并提到了其余12家供应商的信息可在特定平台获取。

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         光刻机设备是半导体制造中的重要设备，用于将芯片图案转移到半导体晶圆上。目前，全球光刻机市场竞争激烈，今天我总结了全球的主要供应商明细，共20家，不求最多，但求最精。
         这些这些公司的光刻机产品主要包括： 1.ArF光刻机：用于制造集成电路中最先进的制程，如DRAM、逻辑芯片等。 2.KrF光刻机：用于制造半导体制造的主流工艺，如晶体管等。 3.i-line光刻机：用于制造CMOS和其他主流集成电路制程。 2957701e14f42e13fe857d22870c2190.jpeg

*剩下12个厂商可在知识星球内查看




半导体光刻胶有 G 线光刻胶、I 线光刻胶、KrF 光刻胶和 ArF 光刻胶四种
zhaocaijinbaoya的博客
01-26 2万+
光刻胶有 G 线光刻胶、I 线光刻胶、KrF 光刻胶和 ArF 光刻胶四种 半导体光刻胶根据曝光光源波长的不同来分类。常用曝光光源一共有六种，分别是紫外全谱（300～450nm）、 G 线（436nm）、 I 线（365nm）、深紫外（DUV，包括 248nm 和 193nm）和极紫外（EUV），相对应于各曝光波 长的光刻胶也应运而生。不同的光刻胶中，根据不同的需求，关键配方成份如成膜树脂、光引发剂、添加剂等 也有所不同，使得光刻胶有不同的性能，进而能够满足相应的需求。 目前主要的光刻胶有 G 线光刻胶
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Q_1106715599的博客
11-04 579
中国光刻工艺设备行业营销动态分析与未来发展趋势预测报告2021年版 第1章：光刻工艺设备行业界定及发展环境剖析1.1 光刻工艺设备行业界定及统计说明 1.1.1 光刻工艺设备在半导体产业链中的地位 1.1.2 光刻工艺过程及对应设备要求 1.1.3 本行业关联国民经济行业分类 1.1.4 本报告行业研究范围的界定说明 1.1.5 本报告的数据来源及统计标准说明 1.2 中国光刻工艺设备行业技术环境 1.2.1 半导体光刻技术发展分析 （1）光刻技术原理 （2）光学光刻技术 （3）E.
全球光刻机龙头是怎样炼成的
03-02 4249
▌本文来源：驭势资本（已授权） 文章大纲 光刻机：半导体工业皇冠上的明珠 ·光刻：半导体制造的核心工艺 ·光刻机：光刻工艺的核心设备 ·光刻机市场：上游供给不足，下游需求强劲 全球局势：三分天下，高端市场一家独大 ·ASML：高端光刻机垄断者 ·尼康：发挥面板光刻比较优势 ·佳能：光电为主，光刻为辅 国产化进程：前路漫漫，曙光微现 ·上海微电子：国产光刻机的星星之火 ASML 光刻机：半导体工业皇冠上的明珠 半导体芯片制作分为IC设计...
ASML的光刻机型号汇总(上)
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07-25 1684
欢迎加入我的半导体制造知识星球社区，目前社区有1900人左右。由于工作量巨大，只上传了G线，i线系列，下一期会将Twinscan中常见的ArF浸没式，EUV光刻机罗列出来。：采用极紫外光刻（EUV），支持亚20 nm制程节点。ASML，全名 ASML Holding NV,荷兰跨国公司，成立于 1984 年。里的学员问：ASML的光刻机有哪些型号，最近要做相关的报告，麻烦帮忙总结下。极紫外光刻机(EUV) 的厂商。：实现扫描式光刻，提升生产效率。：双工作台技术，显著提高WPH。：首次引入自动步进对准技术。
信息技术-简答汇总
yanyuyanxin的博客
08-01 5269
信息技术简答题
关于半岛体试验的一些知识汇总
szhtw168的博客
09-01 1499
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TTL、RS-232 和 RS-485 是三种常见的串行通信电平标准，它们各自有不同的协议特点，适用于不同的应用场景。
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基于STM32定时器中断讲解（HAL库）
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