ASML的光刻机型号汇总(上)

最新推荐文章于 2025-05-15 15:00:42 发布
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知识星球 里的学员问：ASML的光刻机有哪些型号，最近要做相关的报告，麻烦帮忙总结下。ASML，全名 ASML Holding NV,荷兰跨国公司，成立于 1984 年。 是半导体行业 最大的设备供应商，也是全球唯一一家生产极紫外光刻机(EUV) 的厂商。

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如上图，ASML的光刻机经历了几个阶段： PAS 2000：首次引入自动步进对准技术。 PAS 5000：提高分辨率和叠层精度。 PAS 5500，1991年发布：实现扫描式光刻，提升生产效率。 Twinscan XT,NXT ：双工作台技术，显著提高WPH。 Twinscan NXE EUV，2013年推出：采用极紫外光刻（EUV），支持亚20 nm制程节点。根据型号不同我单独做了一个表格：

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由于工作量巨大，只上传了G线，i线系列，下一期会将Twinscan中常见的ArF浸没式，EUV光刻机罗列出来。

ef9fc01a93421ef8c2879d43793430a4.jpeg     欢迎加入我的半导体制造知识星球社区，目前社区有1900人左右。在这里会针对学员问题答疑解惑，上千个半导体行业资料共享，内容比文章丰富很多很多，适合快速提升半导体制造能力，介绍如下： 》

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欢迎加入我的半导体制造知识星球社区，目前社区有1900人左右。然后，光线通过蔡司镜反射到晶圆表面，从而在晶圆上呈现出芯片的设计的图案。ASML 最畅销的 EUV 产品是 TWINSCAN NXE:3600D，其售价高达 2 亿美元。这台光刻机约180吨，卡车大小的体积，需要用三架。ASML公司的EUV介绍极紫外光刻 (EUV) 技术使用波长为13.5纳米的光。，ASML 已出货约 140 台 EUV 系统，而且它是唯一一家制造EUV的公司。本期，我们要罗列下ASML的EUV光刻机的型号及主要技术参数。
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本资料包含荷兰光刻机厂商ASML的内部培训资料 ，包括介绍芯片的制作过程以及原理，光刻机的使用说明以及原理等等
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02-21 3297
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例如输出占空比为50%，频率为10Hz的脉冲，高电平为3.3V.则其输出的模拟效果相当于输出一个1.65V的高电平。调节占空比最终会反映到输出的电流、电压上，或者可以理解为输出的总能量变化，100%占空比时输出100%能量，50%占空比时，只会输出一半的能量，例如50%占空比控制LED会比较暗，控制电机力气会比较小。预分频系数为 72-1，自动重装载值为 500-1，定时器溢出频率，即PWM的周期，就是 72MHz/(72)/(500) = 2kHz 这里的72是因为从0开始计算到71，500同理。
asml光刻机型号列表
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### 回答1： ASML公司是全球领先的半导体设备制造商，主要生产光刻机等晶片制造设备。在ASML公司的光刻机系列产品中，常见的型号有以下几种： 1. NXT系列：包括NXT-1970Ci、NXT-1970、NXT-1970B、NXT-1970i和NXT-1980Ci等型号。这些光刻机基于ASML最新的Illuminator和Projection Lens技术，可以为半导体制造商提供高精度的晶片制造解决方案，适用于7nm工艺及以下的生产。 2. TWINSCAN系列：包括TWINSCAN XT、TWINSCAN XTS、TWINSCAN NXT等型号。这些光刻机主要应用于14nm工艺及以下的芯片生产。其特点是高可靠性和高生产效率，能够满足客户需求。 3. PAS系列：包括PAS 5000/5500、PAS 5500 MarkⅡ/MarkⅢ、PAS 5500W之类的型号。这些光刻机是ASML公司过去生产的传统光刻机型号，适用于生产28nm工艺及以上的芯片。虽然已经逐渐被NXT和TWINSCAN系列取代，但仍然广泛应用于一些客户的制造流程中。 总之，ASML提供了多种型号的光刻机，以满足客户在不同工艺节点的需求。随着半导体工艺的不断进步，ASML的光刻机技术也将不断创新，为晶片制造行业带来更先进、更高效的生产解决方案。 ### 回答2： ASML（荷兰阿斯麦公司）是全球领先的半导体制造和研发设备的供应商之一，其所生产的光刻机不仅技术先进，而且广泛应用于半导体芯片制造中。以下是ASML 光刻机型号列表： 1.ASML PAS 5000/5500：ASML的第一代光刻机，用于半导体制造的成像和曝光，适用于70纳米到2微米的芯片制造。 2.ASML Twinscan XT：该系列光刻机适用于32纳米到10纳米芯片制造，可以进行抗反射层和多层曝光。 3.ASML Twinscan NXE：这是ASML的EUV（极紫外）光刻机系列，使用13.5纳米的光源进行曝光，适用于7 纳米以下的芯片制造。 4.ASML AT: 该系列光刻机专为自动芯片制造而设计，适用于生产智能手机、平板电脑和其他移动设备芯片。 5.ASML XT: 使用双倍曝光技术的XT系列，可以提高曝光精度并增加生产效率，适用于芯片尺寸从32纳米到14纳米。 总之，ASML 的光刻机系列涵盖了从2微米到7纳米的生产尺寸，以及多层曝光、EUV技术等各种先进技术。它们在半导体制造领域中得到了广泛应用，用于生产电子产品的关键元器件。 ### 回答3： ASML光刻机是世界领先的半导体生产设备制造商之一，很多人都想了解ASML光刻机的型号列表。目前ASML光刻机型号不胜枚举，但我们可以列举出一些常见的型号： 1. 公司产品主要有ArFi光刻机、EUV光刻机和DUV光刻机，ASML的ArFi光刻机包括TwinScan NXT: 1450i、TwinScan NXT: 2030i和TwinScan NXT: 1970Ci等，EUV光刻机主要有NXE: 3350B和NXE: 3400C等型号。DUV光刻机则包括130nm到28nm节点的机型，如TWINSCAN KrF、TWINSCAN XT、TWINSCAN AT、TWINSCAN XT: 1700i和TWINSCAN NXT: 1960Ci等。 2. ASML光刻机还分为低压和高压两种类型，低压光刻机主要适用于半导体制造过程中的深紫外、紫外和可见光技术，如TWINSCAN XT、TWINSCAN AT等机型，而高压光刻机主要适用于生产较低成本的低功耗芯片，如TWINSCAN NXT: 1960Ci等机型。 3. ASML光刻机还分为4英寸、6英寸、8英寸和12英寸等尺寸，如TWINSCAN AT:3400S、TWINSCAN NXT:1460、TWINSCAN NXT:1950、TWINSCAN NXT:2000i等。 总之，ASML光刻机是半导体生产中不可或缺的重要设备之一，其型号繁多，不同型号适用于不同的生产需求，无论是在技术上和经济上都是非常优秀的选择。
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