光刻胶分为：半导体光刻胶/LCD光刻胶/PBC光刻胶-CSDN博客

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光刻胶主要由光刻胶树脂、感光剂、溶剂和添加剂组成，分为光聚合型、光分解型、光交联型，以及正性、负性胶。其重要指标包括分辨度、对比度、敏感度。主要应用于半导体、LCD和PCB领域，其中半导体光刻胶技术要求最高。光刻胶的各类化合物如1-丙烯酸金刚烷酯、1-金刚烷基甲基丙烯酸酯等对性能有重要影响。

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光刻胶分为：半导体光刻胶/LCD光刻胶/PBC光刻胶

光刻胶的种类：

光刻胶的主要成分有光刻胶树脂、感光剂、溶剂和添加剂。光刻胶树脂是一种惰性的聚合物基质，是用来将其它材料聚合在一起的粘合剂；光刻胶的粘附性、胶膜厚度等特性都是由树脂决定的。感光剂是光刻胶的核心部分，它对光形式的辐射能，特别是在紫外区光的辐射能会发生反应；曝光时间、光源所发射光线的强度都和感光剂的特性直接相关。溶剂是光刻胶中容量较大的成分；因为感光剂和添加剂都是固态物质，为了将他们均匀地涂覆，要将它们加入溶剂进行溶解，形成液态物质，且使之具有良好的流动性，可以通过旋转方式涂布在晶圆表面。添加剂可以用以改变光刻胶的某些特性，如可以通过添加染色剂来改善光刻胶，使其发生反射。

光刻胶的品种多种多样，基于感光树脂的化学结构，按技术可分为光聚合型、光分解型、光交联型三种。另外，正性和负性光刻胶是光刻胶的两个重要品类，光照后形成可溶物质的为正性胶，形成不可溶物质的为负性胶。由于性能较优，正性光刻胶应用更广，但由于光刻胶需求量大，负性胶仍有一定的应用市场。

光刻胶的组成部分：

光刻胶较为重要的技术指标包括分辨度、对比度、敏感度。优秀的光刻胶必须具备高分辨度、高敏感度和高对比度，以保证能将精密的图像从掩模版转移到硅片上。另外，光刻胶的技术要求高，所有的技术指标都必须达标，因此除上述三个硬性指标外，好的光刻胶还必须具有强蚀刻阻抗性、高纯度、低溶解度、高粘附性、小的表面张力、低成本、长寿命周期以及较高的玻璃化转换温度。

光刻胶有以下主要技术参数：

光刻胶应用领域宽阔，半导体光刻胶尤为重要

光刻胶经过几十年不断的发展和进步，应用领域不断扩大。在光刻胶不断发展进步的过程中，衍生出非常多的种类，按照应用领域不同，光刻胶可以划分为半导体用光刻胶、液晶显示(LCD)用光刻胶、印刷电路板(PCB) 用光刻胶、其他用途光刻胶。其中，PCB 光刻胶壁垒相对较低，而半导体光刻胶代表着光刻胶技术较先进水平。

1-丙烯酸金刚烷酯 121601-93-2

1-金刚烷基甲基丙烯酸酯 16887-36-8

丙烯酸三环[5.2.1.02,6]癸-8-基酯 7398-56-3

4-乙酰氧基苯乙烯 2628-16-2

1,3-金刚烷二醇单丙烯酸酯 216581-76-9

2-甲基-2-金刚烷醇丙烯酸酯 249562-06-9

2-乙基-2-金刚烷基丙烯酸酯 303186-14-3

1,3-金刚烷二醇二丙烯酸酯 81665-82-9

2-氧代六氢-2H-3,5-亚甲基环戊二烯并[b]呋喃-6-基甲基丙烯酸酯 254900-07-7

甲基丙烯酸三环[5.2.1.02,6]癸-8-基酯 34759-34-7

2-异丙基-2-金刚烷丙烯酸甲酯 297156-50-4

2-异丙基-2-金刚烷醇丙烯酸酯 251564-67-7